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1. (WO2019066861) GÉNÉRATION D'UN ENSEMBLE DE DONNÉES D'ASSOCIATION POUR MANIPULER UN MOTIF DE PHOTOMASQUE
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N° de publication : WO/2019/066861 N° de la demande internationale : PCT/US2017/054056
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 28.09.2017
CIB :
G03F 1/36 (2012.01) ,H01L 21/033 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
36
Masques à correction d'effets de proximité; Leur préparation, p.ex. procédés de conception à correction d'effets de proximité [OPC optical proximity correction]
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
033
comportant des couches inorganiques
Déposants :
INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
DHANANJAY VINJAMUR, Raghunathan; US
BROCKMAN, Christopher; US
VENKATESAN, Raguraman; US
AGARWAL, Diwakar; US
Mandataire :
COFIELD, Michael A.; US
PARKER, Wesley E.; US
MARLINK, Jeffrey S.; US
AUYEUNG, Al; US
RASKIN, Vladimir; US
DANSKIN, Timothy A.; US
MOORE, Michael S.; US
STRAUSS, Ryan N.; US
BLAIR, Steven R.; US
HALEVA, Aaron S.; US
MAKI, Nathan R.; US
WANG, Yuke; US
YATES, Steven; US
BERNADICOU, Michael A.; US
BRASK, Justin; US
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) GENERATING AN ASSOCIATION DATASET FOR MANIPULATING A PHOTOMASK PATTERN
(FR) GÉNÉRATION D'UN ENSEMBLE DE DONNÉES D'ASSOCIATION POUR MANIPULER UN MOTIF DE PHOTOMASQUE
Abrégé :
(EN) Apparatuses, methods and storage medium associated with generating an association dataset for manipulating a photomask pattern are disclosed herein. In embodiments, an apparatus to generate an association dataset for correction of a mask pattern (e.g., an arbitrary mask pattern) to compensate for liabilities predicted by one or more OPC (optical proximity correction) models based on the mask pattern may include a processor to: identify a plurality of evaluation points that correspond to a wafer target pattern that is different than the mask pattern; identify segments of a perimeter of the mask portions of the perimeter of the mask pattern to the evaluation points, respectively, in response to the identification of the segments; wherein the association dataset is based on the correlations.
(FR) La présente invention concerne des appareils, des procédés et un support de données associés à la génération d'un ensemble de données d'association pour manipuler un motif de photomasque. Dans des modes de réalisation, un appareil destiné à générer un ensemble de données d'association pour la correction d'un motif de masque (un motif de masque arbitraire, par exemple) dans le but de pallier les erreurs potientielles prédites par un ou plusieurs modèles OPC (correction de proximité optique) sur la base du motif de masque peut comprendre un processeur pour : identifier une pluralité de points d'évaluation qui correspondent à un motif cible de tranche qui diffère du motif de masque ; respectivement identifier aux points d'évaluation des segments d'un périmètre des parties de masque du périmètre du motif de masque, et ce suite à l'identification des segments. L'ensemble de données d'association est basé sur les corrélations.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)