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1. (WO2019066267) CHARGE DE TROU INTERNE DE BUTÉE POUR IMPLANT
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N° de publication : WO/2019/066267 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/009876
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 27.08.2018
CIB :
A61K 6/08 (2006.01) ,A61C 8/00 (2006.01) ,A61C 13/225 (2006.01)
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
K
PRÉPARATIONS À USAGE MÉDICAL, DENTAIRE OU POUR LA TOILETTE
6
Préparations pour la technique dentaire
02
Emploi de préparations pour la fabrication de dents artificielles, l'obturation ou le recouvrage des dents
08
Emploi de résines naturelles ou synthétiques
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
C
TECHNIQUE DENTAIRE; DISPOSITIFS OU MÉTHODES POUR L'HYGIÈNE BUCCALE OU DENTAIRE
8
Moyens destinés à être fixés à l'os de la mâchoire pour consolider les dents naturelles ou pour y assujettir des prothèses dentaires; Implants dentaires; Outils pour l'implantation
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
C
TECHNIQUE DENTAIRE; DISPOSITIFS OU MÉTHODES POUR L'HYGIÈNE BUCCALE OU DENTAIRE
13
Prothèses dentaires; Leurs procédés de fabrication
225
Fixation des prothèses dans la bouche
Déposants :
KIM, Jae Young [KR/KR]; KR
Inventeurs :
KIM, Jae Young; KR
Mandataire :
BAE, KIM & LEE IP GROUP; 11th Floor, 343, Gangnam-daero, Seocho-gu, Seoul 06626, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-012702529.09.2017KR
Titre (EN) INTERNAL HOLE FILLER OF ABUTMENT FOR IMPLANT
(FR) CHARGE DE TROU INTERNE DE BUTÉE POUR IMPLANT
(KO) INTERNAL HOLE FILLER OF ABUTMENT FOR IMPLANT
Abrégé :
(EN) The present invention relates to an internal hole filler of an abutment for implant, which includes first polytetrafluoroethylene (first PTFE) and second polytetrafluoroethylene (second PTFE), wherein tensile strength measured after sintering the first PTFE is in a range of 20 MPa or more to less than 28 MPa, and tensile strength measured after sintering the second PTFE is 28 MPa or more, and a method of filling an internal hole of the abutment for implant.
(FR) La présente invention concerne une charge de trou interne d'une butée pour implant, qui comprend un premier polytétrafluoroéthylène (premier PTFE) et un second polytétrafluoroéthylène (second PTFE), la résistance à la traction mesurée après le frittage du premier PTFE étant dans une plage de 20 MPa ou plus à moins de 28 MPa, et la résistance à la traction mesurée après frittage du second PTFE étant de 28 MPa ou plus, et un procédé de remplissage d'un trou interne de butée pour implant.
(KO) The present invention relates to an internal hole filler of an abutment for implant, which includes first polytetrafluoroethylene (first PTFE) and second polytetrafluoroethylene (second PTFE), wherein tensile strength measured after sintering the first PTFE is in a range of 20 MPa or more to less than 28 MPa, and tensile strength measured after sintering the second PTFE is 28 MPa or more, and a method of filling an internal hole of the abutment for implant.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)