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1. (WO2019066014) COMPOSITION DE POLISSAGE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UNE COMPOSITION DE POLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
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N° de publication : WO/2019/066014 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/036406
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 28.09.2018
CIB :
C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,C09G 1/02 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
14
Substances antidérapantes; Abrasifs
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
B
MACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
37
Machines ou dispositifs de rodage; Accessoires
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
G
COMPOSITIONS DE PRODUITS À POLIR AUTRES QUE LE VERNIS À L'ALCOOL; FARTS
1
Compositions de produits à polir
02
contenant des abrasifs ou agents de polissage
Déposants :
株式会社フジミインコーポレーテッド FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目1番地1 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502, JP
Inventeurs :
天▲高▼ 恭祐 TENKO Kyosuke; JP
鎌田 透 KAMADA Toru; JP
菱田 翔太 HISHIDA Shota; JP
Mandataire :
田中 秀▲てつ▼ TANAKA Hidetetsu; JP
山田 勇毅 YAMADA Yuki; JP
森 哲也 MORI Tetsuya; JP
Données relatives à la priorité :
2017-19134829.09.2017JP
2018-04888816.03.2018JP
Titre (EN) POLISHING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POLISHING COMPOSITION, AND POLISHING METHOD
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UNE COMPOSITION DE POLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
(JA) 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、および研磨方法
Abrégé :
(EN) Provided is a polishing composition which exhibits excellent polishing performance with respect to the surfaces of materials such as alloys, resins, metals, semimetals, and oxides of metals or semimetals, and which is reduced in scattering of the polishing composition during polishing. A polishing composition according to one embodiment of the present invention contains abrasive grains, a first liquid that has hydrophobicity, a surfactant, a layered silicate compound, a thickening agent and a second liquid that has hydrophilicity.
(FR) La présente invention concerne une composition de polissage qui fait preuve d’une excellente performance de polissage vis-à-vis des surfaces de matériaux tels que les alliages, les résines, les métaux, les semi-métaux, et les oxydes de métaux ou semi-métaux, et qui présente une diffusion réduite de la composition de polissage durant le polissage. Une composition de polissage selon un mode de réalisation de la présente invention contient des grains abrasifs, un premier liquide qui présente une hydrophobie, un tensioactif, un composé de silicate stratifié, un agent épaississant et un second liquide qui présente une hydrophilie.
(JA) 合金または樹脂、さらには金属や半金属、その酸化物等の材料の表面に対し優れた研磨性能を有しつつ、研磨時における研磨用組成物の飛散を低減させた研磨用組成物の提供。本実施形態に係る研磨用組成物は、砥粒と、疎水性を有する第1の液体と、界面活性剤と、層状ケイ酸塩化合物と、増粘剤と、親水性を有する第2の液体とを含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)