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1. (WO2019065904) DISPOSITIFS À NANOÉLECTRODES ET PROCÉDÉS DE FABRICATION ASSOCIÉS
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N° de publication : WO/2019/065904 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/036086
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 27.09.2018
CIB :
G01N 27/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
27
Recherche ou analyse des matériaux par l'emploi de moyens électriques, électrochimiques ou magnétiques
Déposants :
QUANTUM BIOSYSTEMS INC. [JP/JP]; 2-3-11, Nihonbashihoncho, Chuo-ku, Tokyo 1030023, JP
Inventeurs :
MIHARA, Kazusuke; JP
KAWASAKI, Hisao; JP
DIMITROV, Valentin V.; US
HONKURA, Toshihiko; US
OLDHAM, Mark F.; US
NORDMAN, Eric S.; US
Mandataire :
INABA, Yoshiyuki; JP
ONUKI, Toshifumi; JP
Données relatives à la priorité :
62/563,85927.09.2017US
Titre (EN) NANOELECTRODE DEVICES AND METHODS OF FABRICATION THEREOF
(FR) DISPOSITIFS À NANOÉLECTRODES ET PROCÉDÉS DE FABRICATION ASSOCIÉS
Abrégé :
(EN) The present disclosure provides devices and methods for fabrication of nanoelectrode pairs which may be useful for use with tunneling labels. Devices fabricated as described may have good spacing tolerances, angular tolerances, surface uniformity, and may have reduced particulate contamination.
(FR) La présente invention concerne des dispositifs et des procédés de fabrication de paires de nanoélectrodes qui peuvent être utiles pour une utilisation avec des étiquettes de détection de tunnel. Les dispositifs fabriqués selon l'invention peuvent avoir de bonnes tolérances d'espacement, tolérances angulaires, une bonne uniformité de surface, et peuvent avoir une contamination particulaire réduite.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)