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1. (WO2019065840) JAUGE EXTENSOMÉTRIQUE
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N° de publication : WO/2019/065840 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/035938
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 27.09.2018
CIB :
G01B 7/16 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
7
Dispositions de mesure caractérisées par l'utilisation de moyens électriques ou magnétiques
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pour mesurer les déformations dans un solide, p.ex. au moyen d'une jauge de contrainte à résistance
Déposants :
ミネベアミツミ株式会社 MINEBEA MITSUMI INC. [JP/JP]; 長野県北佐久郡御代田町大字御代田4106-73 4106-73 Oaza Miyota, Miyota-machi, Kitasaku-gun, Nagano 3890293, JP
Inventeurs :
浅川 寿昭 ASAKAWA, Toshiaki; JP
湯口 昭代 YUGUCHI, Akiyo; JP
相澤 祐汰 AIZAWA, Yuta; JP
種田 翔太 TANEDA, Syota; JP
Mandataire :
伊東 忠重 ITOH, Tadashige; JP
伊東 忠彦 ITOH, Tadahiko; JP
Données relatives à la priorité :
2017-19182229.09.2017JP
Titre (EN) STRAIN GAUGE
(FR) JAUGE EXTENSOMÉTRIQUE
(JA) ひずみゲージ
Abrégé :
(EN) This strain gauge includes: a flexible base material; and a resistor formed on the base material from a material containing chromium and/or nickel. The surface unevenness on one surface of the base material is no more than 15nm, and the film thickness of the resistor is at least 0.05μm.
(FR) La jauge extensométrique selon l’invention possède: un substrat flexible; et une résistance formée sur le substrat à partir d’un matériau contenant du chrome et/ou du nickel. La rugosité superficielle d'une face de substrat est inférieure ou égale à 15 nm, et l’épaisseur de film de la résistance est supérieure ou égale à 0,05 μm.
(JA) 本ひずみゲージは、可撓性を有する基材と、前記基材上に、クロムとニッケルの少なくとも一方を含む材料から形成された抵抗体と、を有し、前記基材の一方の面の表面凹凸が15nm以下であり、前記抵抗体の膜厚が0.05μm以上である。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)