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1. (WO2019065824) MATÉRIAU SOLUBLE POUR LA MODÉLISATION TRIDIMENSIONNELLE
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N° de publication : WO/2019/065824 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/035900
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 27.09.2018
CIB :
B29C 64/40 (2017.01) ,B29C 64/118 (2017.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,B33Y 70/00 (2015.01)
[IPC code unknown for B29C 64/40][IPC code unknown for B29C 64/118][IPC code unknown for B33Y 10][IPC code unknown for B33Y 70]
Déposants :
花王株式会社 KAO CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋茅場町1丁目14番10号 14-10, Nihonbashi Kayabacho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038210, JP
Inventeurs :
吉村 忠徳 YOSHIMURA,Tadanori; JP
Mandataire :
特許業務法人 ユニアス国際特許事務所 UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; 大阪府大阪市淀川区西中島5丁目13-9 新大阪MTビル1号館2階 First Shin-Osaka MT Bldg. 2nd Floor, 5-13-9 Nishinakajima, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011, JP
Données relatives à la priorité :
2017-18746528.09.2017JP
2018-17854225.09.2018JP
Titre (EN) SOLUBLE MATERIAL FOR THREE-DIMENSIONAL MODELING
(FR) MATÉRIAU SOLUBLE POUR LA MODÉLISATION TRIDIMENSIONNELLE
(JA) 三次元造形用可溶性材料
Abrégé :
(EN) This soluble material for three-dimensional modeling is used as a material for a support member that supports a three-dimensional model when the three-dimensional model is produced by an FDM 3D printer. This soluble material for three-dimensional modeling contains a copolymer α which has a vinyl monomer unit A that has a hydrophilic group and a vinyl monomer unit B other than the vinyl monomer unit A, said vinyl monomer unit B having a group which is interactive with the hydrophilic group. This soluble material for three-dimensional modeling is capable of suppressing accuracy deterioration of a three-dimensional model by suppressing foaming even if used in the production of a three-dimensional model by an FDM method, in which a material having high heat resistance is used as a modeling material, after being exposed to high humidities; and this soluble material for three-dimensional modeling has a high rate of dissolution in neutral water and is able to provide a method for producing a three-dimensional model, wherein a support member is quickly removed from a three-dimensional model precursor without using a strong alkaline aqueous solution.
(FR) Ce matériau soluble pour la modélisation tridimensionnelle est utilisé en tant que matériau pour un élément de support qui supporte un modèle tridimensionnel lorsque ledit modèle tridimensionnel est produit par une imprimante 3D FDM. Ce matériau soluble pour modélisation tridimensionnelle contient un copolymère α qui a une unité monomère vinylique A qui a un groupe hydrophile et une unité monomère vinylique B autre que l'unité monomère vinylique A, ladite unité monomère vinylique B ayant un groupe interagissant avec le groupe hydrophile. Ce matériau soluble pour modélisation tridimensionnelle est capable de supprimer la détérioration de précision d'un modèle tridimensionnel par suppression de moussage même s'il est utilisé dans la production d'un modèle tridimensionnel par une méthode FDM, dans laquelle un matériau ayant une résistance à la chaleur élevée est utilisé en tant que matériau de modelage, après avoir été exposé à des humidités élevées ; et ce matériau soluble pour modélisation tridimensionnelle a un taux élevé de dissolution dans de l'eau neutre et peut fournir une méthode de production d'un modèle tridimensionnel, un élément de support étant rapidement retiré d'un précurseur de modèle tridimensionnel sans utiliser de solution aqueuse alcaline forte.
(JA) 本発明の三次元造形用可溶性材料は、FDM方式の3Dプリンタによって三次元物体を製造する際に、当該三次元物体を支持するサポート材の材料として用いられる三次元造形用可溶性材料であって、前記三次元造形用可溶性材料が、親水性基を有するビニル系単量体ユニットA、及び前記親水性基と相互作用する基を有する前記ビニル系単量体ユニットA以外のビニル系単量体ユニットBを有する共重合体αを含む。本発明の三次元造形用可溶性材料によれば高湿度下に暴露された後に造形材として耐熱性が高い材料を用いたFDM方式による三次元物体の製造に用いても発泡を抑制して三次元物体の精度低下を抑制することができ、かつ、中性水への溶解速度が大きく、強アルカリ水溶液を用いること無く三次元物体前駆体からサポート材を速やかに除去することができる三次元物体の製造方法を提供することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)