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1. (WO2019065789) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PRODUIT DURCI, MATRICE NOIRE ET DISPOSITIF D’AFFICHAGE D’IMAGE
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N° de publication : WO/2019/065789 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/035818
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 26.09.2018
CIB :
G03F 7/031 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,C08F 290/06 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
028
avec des substances accroissant la photosensibilité, p.ex. photo-initiateurs
031
Composés organiques non couverts par le groupe G03F7/02975
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
44
Polymérisation en présence d'additifs, p.ex. plastifiants, matières colorantes, charges
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
46
Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
48
par la lumière ultraviolette ou visible
50
avec des agents sensibilisants
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
290
Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères modifiés par introduction de groupes aliphatiques non saturés terminaux ou latéraux
02
sur des polymères modifiés par introduction de groupes non saturés terminaux
06
Polymères prévus par la sous-classe C08G54
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
20
Filtres
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
Déposants :
三菱ケミカル株式会社 MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目1番1号 1-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008251, JP
Inventeurs :
植松 卓也 UEMATSU Takuya; JP
東 直人 AZUMA Naoto; JP
Mandataire :
田▲崎▼ 聡 TAZAKI Akira; JP
伏見 俊介 FUSHIMI Shunsuke; JP
大浪 一徳 ONAMI Kazunori; JP
Données relatives à la priorité :
2017-18613827.09.2017JP
2017-23915914.12.2017JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT, BLACK MATRIX AND IMAGE DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PRODUIT DURCI, MATRICE NOIRE ET DISPOSITIF D’AFFICHAGE D’IMAGE
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化物、ブラックマトリックス及び画像表示装置
Abrégé :
(EN) Provided is a high-resistance photosensitive resin composition having excellent light-blocking properties and insulation properties. This photosensitive resin composition contains (a) an alkali-soluble resin, (b) a photopolymerizable monomer, (c) a photopolymerization initiator and (d) a coloring material, and is such that the photopolymerization initiator (c) contains a photopolymerization initiator (c1) represented by general formula (1), and the coloring material (d) contains high-resistance carbon black (d1). (In formula (1), R1, R2 and R3 may be the same as, or different from, each other and each denote an optionally substituted alkyl group or the like, R4 denotes an optionally substituted alkyl group or the like, R5 denotes an optionally substituted alkyl group or the like, A denotes an oxygen atom or a sulfur atom, m is an integer between 0 and 4, n is an integer between 0 and 4 and p is an integer between 0 and 4. The aromatic rings included in formula (1) may include fused rings, but the number of rings included in said fused rings is 2 or less.)
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible à haute résistance ayant d'excellentes propriétés de blocage de lumière et d'isolation. Cette composition de résine photosensible contient (a) une résine soluble dans les alcalis, (b) un monomère photopolymérisable, (c) un amorceur de photopolymérisation et (d) un matériau colorant, et elle est telle que l'amorceur de photopolymérisation (c) contient un amorceur de photopolymérisation (c1) représenté par la formule générale (1) et que le matériau colorant (d) contient du noir de carbone à haute résistance (d1). (Dans la formule (1), R1, R2 et R3 peuvent être identiques ou différents les uns des autres et ils représentent chacun un groupe alkyle éventuellement substitué ou un groupe similaire, R4 représente un groupe alkyle éventuellement substitué ou un groupe similaire, R5 représente un groupe alkyle éventuellement substitué ou un groupe similaire, A représente un atome d'oxygène ou un atome de soufre, m est un nombre entier compris entre 0 et 4, n est un nombre entier compris entre 0 et 4 et p est un nombre entier compris entre 0 et 4. Les noyaux aromatiques inclus dans la formule (1) peuvent comprendre des noyaux fusionnés, mais le nombre de noyaux inclus dans lesdits noyaux fusionnés est inférieur ou égal à 2.)
(JA) 遮光性及び絶縁性に優れた高抵抗な感光性樹脂組成物を提供する。本発明の感光性樹脂組成物は、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)光重合性モノマー、(c)光重合開始剤、及び(d)色材を含み、前記(c)光重合開始剤が、下記一般式(1)で表される光重合開始剤(c1)を含有し、前記(d)色材が、高抵抗カーボンブラック(d1)を含有する。(上記式(1)中、R1、R2及びR3は、それぞれ同一又は異なって、置換基を有していてもよいアルキル基等を、R4は置換基を有していてもよいアルキル基等を、R5は置換基を有していてもよいアルキル基等を、Aは酸素原子又は硫黄原子を、mは0~4の整数を、nは0~4の整数を、pは0~4の整数を表す。式(1)中に含まれる芳香族環は縮合環を含んでいてもよいが、該縮合環に含まれる環は2個以下である。)
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)