Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019065744) JAUGE EXTENSOMÉTRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/065744 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/035713
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 26.09.2018
CIB :
G01B 7/16 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
7
Dispositions de mesure caractérisées par l'utilisation de moyens électriques ou magnétiques
16
pour mesurer les déformations dans un solide, p.ex. au moyen d'une jauge de contrainte à résistance
Déposants :
ミネベアミツミ株式会社 MINEBEA MITSUMI INC. [JP/JP]; 長野県北佐久郡御代田町大字御代田4106-73 4106-73 Oaza Miyota, Miyota-machi, Kitasaku-gun, Nagano 3890293, JP
Inventeurs :
浅川 寿昭 ASAKAWA, Toshiaki; JP
丹羽 真一 NIWA, Shinichi; JP
相澤 祐汰 AIZAWA, Yuta; JP
北村 厚 KITAMURA, Atsushi; JP
Mandataire :
伊東 忠重 ITOH, Tadashige; JP
伊東 忠彦 ITOH, Tadahiko; JP
Données relatives à la priorité :
2017-19182129.09.2017JP
Titre (EN) STRAIN GAUGE
(FR) JAUGE EXTENSOMÉTRIQUE
(JA) ひずみゲージ
Abrégé :
(EN) This strain gauge has a flexible substrate and a resistor formed from a material containing chromium and/or nickel on the substrate, wherein the coefficient of expansion of the substrate is in the range of 7-20 ppm/K.
(FR) La jauge extensométrique selon l’invention possède: un substrat flexible; et une résistance formée sur le substrat à partir d’un matériau contenant du chrome et/ou du nickel. Le coefficient de dilatation du substrat est compris dans la plage: 7 ppm/K~20 ppm/K.
(JA) 本ひずみゲージは、可撓性を有する基材と、前記基材上に、クロムとニッケルの少なくとも一方を含む材料から形成された抵抗体と、を有し、前記基材の膨張係数が7ppm/K~20ppm/Kの範囲内である。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)