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1. (WO2019065686) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR FORMER UN PHOTO-ESPACEUR, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN PHOTO-ESPACEUR, SUBSTRAT ÉQUIPÉ D'UN PHOTO-ESPACEUR, ET FILTRE COLORÉ
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N° de publication : WO/2019/065686 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/035579
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 26.09.2018
CIB :
G02B 5/20 (2006.01) ,G02F 1/1339 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
20
Filtres
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13
basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133
Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333
Dispositions relatives à la structure
1339
Joints; Eléments d'espacement; Scellement de la cellule
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
Déposants :
大阪有機化学工業株式会社 OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区安土町1丁目7番20号 1-7-20, Azuchi-machi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410052, JP
Inventeurs :
杉山 大 SUGIYAMA, Dai; JP
椿 幸樹 TSUBAKI, Koki; JP
百本 恵 HYAKUMOTO, Megumi; JP
中野 順弘 NAKANO, Nobuhiro; JP
Mandataire :
稲葉 良幸 INABA, Yoshiyuki; JP
大貫 敏史 ONUKI, Toshifumi; JP
Données relatives à la priorité :
2017-18497326.09.2017JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING PHOTOSPACER, METHOD FOR FORMING PHOTOSPACER, SUBSTRATE EQUIPPED WITH PHOTOSPACER, AND COLOUR FILTER
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR FORMER UN PHOTO-ESPACEUR, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN PHOTO-ESPACEUR, SUBSTRAT ÉQUIPÉ D'UN PHOTO-ESPACEUR, ET FILTRE COLORÉ
(JA) フォトスペーサ形成用感光性樹脂組成物、フォトスペーサの形成方法、フォトスペーサ付基板、及び、カラーフィルタ
Abrégé :
(EN) This photosensitive resin composition for forming a photospacer includes an alkali-soluble resin, and an oligomer having a weight average molecular weight of 1000 or higher. The mass ratio (O/P ratio) of the oligomer (O) to the alkali-soluble resin (P) is 0.4-1.0.
(FR) Cette composition de résine photosensible pour former un photo-espaceur comprend une résine soluble dans les alcalis, et un oligomère ayant un poids moléculaire moyen en poids de 1000 ou plus. Le rapport massique (rapport O/P) de l'oligomère (O) à la résine soluble dans les alcalis (P) est de 0,4-1,0.
(JA) アルカリ可溶性樹脂と、重量平均分子量が1000以上のオリゴマーと、を含み、前記アルカリ可溶性樹脂〔P〕と前記オリゴマー〔O〕との質量比〔O/P比〕が、0.4~1.0であるフォトスペーサ形成用感光性樹脂組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)