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1. (WO2019065499) COMPOSITION DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, COMPOSÉ POLYMÈRE ET COMPOSÉ
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N° de publication : WO/2019/065499 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/035065
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 21.09.2018
CIB :
G03F 7/038 (2006.01) ,C08F 20/38 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
20
Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
38
Esters contenant du soufre
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
東京応化工業株式会社 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012, JP
Inventeurs :
土屋 純一 TSUCHIYA Junichi; JP
遠藤 浩太朗 ENDO Kotaro; JP
藤崎 真史 FUJISAKI Masafumi; JP
仁藤 豪人 NITO Hideto; JP
Mandataire :
棚井 澄雄 TANAI Sumio; JP
松本 将尚 MATSUMOTO Masanao; JP
宮本 龍 MIYAMOTO Ryu; JP
飯田 雅人 IIDA Masato; JP
Données relatives à la priorité :
2017-18501026.09.2017JP
Titre (EN) RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, POLYMERIC COMPOUND, AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, COMPOSÉ POLYMÈRE ET COMPOSÉ
(JA) レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物
Abrégé :
(EN) A resist composition containing a resin component (A1) of which the solubility in a developing solution can vary by the action of an acid, wherein the resin component (A1) has a constituent unit (a0) represented by general formula (a0-1) (in the formula, Ya01 and Ya02 independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, wherein the total number of the carbon atoms in Ya01 and the carbon atoms in Ya02 is 3 or less; Ra01 and Ra02 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, wherein the total number of the carbon atoms in Ra01 and the carbon atoms in Ra02 is 2 to 6 inclusive; and A' represents an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms).
(FR) La présente invention concerne une composition de réserve contenant un composant résine (A1) dont la solubilité dans une solution de développement peut varier en fonction de l'action d'un acide, le composant résine (A1) comprenant un motif constitutif (a0) représenté par la formule générale (a0-1) (dans la formule, Ya01 et Ya02 représentent indépendamment une liaison simple ou un groupe alkylène ayant de 1 à 3 atomes de carbone, le nombre total d'atomes de carbone dans Ya01 et d'atomes de carbone dans Ya02 étant inférieur ou égal à 3 ; Ra01 et Ra02 représentent indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone, le nombre total d'atomes de carbone dans Ra01 et d'atomes de carbone dans Ra02 étant dans la plage allant de 2 à 6 inclus ; et A' représente un groupe alkylène ayant de 1 à 5 atomes de carbone).
(JA) 酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分(A1)を含有し、前記樹脂成分(A1)は、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)を有するレジスト組成物(式中、Ya01及びYa02はそれぞれ独立に単結合又は炭素数1~3のアルキレン基である。ただし、Ya01及びYa02の炭素数の合計は3以下である。Ra01及びRa02はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~4のアルキル基である。ただし、Ra01及びRa02の炭素数の合計は2以上6以下である。A'は炭素数1~5のアルキレン基である)。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)