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1. (WO2019065264) COUCHE DE PROTECTION CONTRE LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COUCHE DE PROTECTION CONTRE LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES ET FEUILLE DE PROTECTION CONTRE LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES
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N° de publication : WO/2019/065264 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/033944
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 13.09.2018
CIB :
H05K 9/00 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,C08K 5/13 (2006.01) ,C08L 79/00 (2006.01) ,H01B 1/12 (2006.01) ,H01B 13/00 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
9
Blindage d'appareils ou de composants contre les champs électriques ou magnétiques
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
7
Produits stratifiés caractérisés par la relation entre les couches, c. à d. produits comprenant essentiellement des couches ayant des propriétés physiques différentes, ou produits caractérisés par la jonction entre couches
02
en ce qui concerne les propriétés physiques, p.ex. la dureté
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
27
Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
K
EMPLOI COMME ADJUVANTS DE SUBSTANCES NON MACROMOLÉCULAIRES INORGANIQUES OU ORGANIQUES
5
Emploi d'ingrédients organiques
04
Composés contenant de l'oxygène
13
Phénols; Phénolates
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
79
Compositions contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement de l'azote, avec ou sans oxygène ou carbone, non prévues dans les groupes C08L61/-C08L77/292
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
B
CÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
1
Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisés; Emploi de matériaux spécifiés comme conducteurs
06
composés principalement d'autres substances non métalliques
12
substances organiques
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
B
CÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
13
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de conducteurs ou câbles
Déposants :
出光興産株式会社 IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321, JP
Inventeurs :
関谷 隆司 SEKIYA, Takashi; JP
栗原 直樹 KURIHARA, Naoki; JP
深津 文起 FUKATSU, Fumioki; JP
Mandataire :
特許業務法人平和国際特許事務所 HEIWA INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区神田須田町一丁目26番地 芝信神田ビル3階 Shibashin Kanda Bldg. 3rd Floor, 26, Kanda Suda-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041, JP
Données relatives à la priorité :
2017-18719527.09.2017JP
Titre (EN) ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING LAYER, METHOD FOR PRODUCING ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING LAYER, AND ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING SHEET
(FR) COUCHE DE PROTECTION CONTRE LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COUCHE DE PROTECTION CONTRE LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES ET FEUILLE DE PROTECTION CONTRE LES ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES
(JA) 電磁波シールド層、電磁波シールド層の製造方法及び電磁波シールドシート
Abrégé :
(EN) This thin film-shaped electromagnetic wave shielding layer does not contain any metal components and contains: a π-conjugated conductive polymer which is a complex of a substituted or unsubstituted polyaniline, and a sulfosuccinic acid derivative of formula (III); and a compound having a phenolic hydroxyl group, wherein the film thickness of the electromagnetic wave shielding layer is 0.1 mm or less, and the sheet resistance Rs of the electromagnetic wave shielding layer is in the range of 1 Ω/□3 Ω/□.
(FR) La présente invention concerne une couche de protection contre les ondes électromagnétiques en forme de film mince qui ne contient pas de constituants métalliques et qui contient : un polymère conducteur π-conjugué qui est un complexe d'une polyaniline substituée ou non substituée, et un dérivé d'acide sulfosuccinique de formule (III) ; et un composé ayant un groupe hydroxyle phénolique, l'épaisseur de film de la couche de protection contre les ondes électromagnétiques étant inférieure ou égale à 0,1 mm, et la résistance de feuille Rs de la couche de protection contre les ondes électromagnétiques se situant dans la plage de1 Ω/□ < Rs ≤ 1 × 103 Ω/□.
(JA) 置換若しくは無置換のポリアニリンと、式(III)のスルホコハク酸誘導体との複合体である、π共役系導電性高分子と、フェノール性水酸基を有する化合物とを含み、かつ金属成分を含まない、薄膜状の電磁波シールド層であって、前記電磁波シールド層の膜厚が、0.1mm以下であり、かつ前記電磁波シールド層のシート抵抗Rsが、1Ω/□<Rs≦1×10Ω/□の範囲内である、電磁波シールド層。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)