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1. (WO2019064786) PANNEAU DE SCINTILLATEUR ET DÉTECTEUR DE RAYONNEMENT
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N° de publication : WO/2019/064786 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/025230
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 03.07.2018
CIB :
G21K 4/00 (2006.01) ,G01T 1/20 (2006.01) ,G01T 1/202 (2006.01)
G PHYSIQUE
21
PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
K
TECHNIQUES NON PRÉVUES AILLEURS POUR MANIPULER DES PARTICULES OU DES RAYONNEMENTS IONISANTS; DISPOSITIFS D'IRRADIATION; MICROSCOPES À RAYONS GAMMA OU À RAYONS X
4
Écrans de conversion pour transformer une distribution spatiale de particules ou de rayonnements ionisants en images visibles, p.ex. écrans fluorescents
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
T
MESURE DES RADIATIONS NUCLÉAIRES OU DES RAYONS X
1
Mesure des rayons X, des rayons gamma, des radiations corpusculaires ou des radiations cosmiques
16
Mesure de l'intensité de radiation
20
avec des détecteurs à scintillation
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
T
MESURE DES RADIATIONS NUCLÉAIRES OU DES RAYONS X
1
Mesure des rayons X, des rayons gamma, des radiations corpusculaires ou des radiations cosmiques
16
Mesure de l'intensité de radiation
20
avec des détecteurs à scintillation
202
le détecteur étant du cristal
Déposants :
浜松ホトニクス株式会社 HAMAMATSU PHOTONICS K.K. [JP/JP]; 静岡県浜松市東区市野町1126番地の1 1126-1, Ichino-cho, Higashi-ku, Hamamatsu-shi, Shizuoka 4358558, JP
Inventeurs :
後藤 啓輔 GOTO Keisuke; JP
白川 和広 SHIRAKAWA Kazuhiro; JP
上西 秀典 JONISHI Hidenori; JP
畑中 将志 HATANAKA Masashi; JP
山路 晴紀 YAMAJI Haruki; JP
櫻井 純 SAKURAI Jun; JP
楠山 泰 KUSUYAMA Yutaka; JP
Mandataire :
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
黒木 義樹 KUROKI Yoshiki; JP
柴山 健一 SHIBAYAMA Kenichi; JP
Données relatives à la priorité :
2017-18657827.09.2017JP
Titre (EN) SCINTILLATOR PANEL, AND RADIATION DETECTOR
(FR) PANNEAU DE SCINTILLATEUR ET DÉTECTEUR DE RAYONNEMENT
(JA) シンチレータパネル及び放射線検出器
Abrégé :
(EN) This scintillator panel 1 is provided with: a substrate 2; a resin protective layer 5 which is formed on the substrate 2, and which comprises an organic material; a barrier layer 3 which is formed on the resin protective layer 5, and which includes thallium iodide as a main component; and a scintillator layer 4 which is formed on the barrier layer 3, and which includes, as a main component, cesium iodide having thallium added thereto. According to this scintillator panel 1, moisture resistance can be improved as a result of providing the barrier layer 3.
(FR) La présente invention concerne un panneau 1 de scintillateur qui comprend : un substrat 2 ; une couche de protection en résine 5 qui est formée sur le substrat 2, et qui comprend un matériau organique ; une couche barrière 3 qui est formée sur la couche de protection en résine 5, et qui comprend de l'iodure de thallium utilisé comme constituant principal ; et une couche 4 de scintillateur qui est formée sur la couche barrière 3, et qui comprend, utilisé comme constituant principal, de l'iodure de césium auquel a été ajouté du thallium. Conformément à ce panneau 1 de scintillateur, la résistance à l'humidité peut être améliorée en raison de l'utilisation de la couche barrière 3.
(JA) シンチレータパネル1は、基板2と、基板2上に形成され、有機材料からなる樹脂保護層5と、樹脂保護層5の上に形成され、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層3と、バリア層3上に形成され、タリウムが添加されたヨウ化セシウムを主成分として含むシンチレータ層4と、を備える。このシンチレータパネル1によれば、バリア層3を有するので、耐湿性を向上することができる。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)