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1. (WO2019064710) FEUILLE DE FIXATION TEMPORAIRE PAR ASPIRATION
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N° de publication : WO/2019/064710 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/022209
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 11.06.2018
CIB :
C09J 7/10 (2018.01) ,B32B 5/18 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,C08J 9/00 (2006.01) ,C09J 7/38 (2018.01) ,C09J 183/04 (2006.01)
[IPC code unknown for C09J 7/10]
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
5
Produits stratifiés caractérisés par l'hétérogénéité ou la structure physique d'une des couches
18
caractérisés par le fait qu'une des couches contient un matériau sous forme de mousse ou essentiellement poreux
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
7
Produits stratifiés caractérisés par la relation entre les couches, c. à d. produits comprenant essentiellement des couches ayant des propriétés physiques différentes, ou produits caractérisés par la jonction entre couches
02
en ce qui concerne les propriétés physiques, p.ex. la dureté
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
9
Mise en œuvre de substances macromoléculaires pour produire des matériaux ou objets poreux ou alvéolaires; Leur post-traitement
[IPC code unknown for C09J 7/38]
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
J
ADHÉSIFS; ASPECTS NON MÉCANIQUES DES PROCÉDÉS DE COLLAGE EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS DE COLLAGE NON PRÉVUS AILLEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX COMME ADHÉSIFS
183
Adhésifs à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone; Adhésifs à base de dérivés de tels polymères
04
Polysiloxanes
Déposants :
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
Inventeurs :
伊関 亮 ISEKI Toru; JP
加藤 和通 KATO Kazumichi; JP
徳山 英幸 TOKUYAMA Hideyuki; JP
金田 充宏 KANADA Mitsuhiro; JP
Mandataire :
籾井 孝文 MOMII Takafumi; JP
Données relatives à la priorité :
2017-18857028.09.2017JP
Titre (EN) ADSORPTIVE TEMPORARY FIXING SHEET
(FR) FEUILLE DE FIXATION TEMPORAIRE PAR ASPIRATION
(JA) 吸着仮固定シート
Abrégé :
(EN) An adsorptive temporary fixing sheet is provided which has sufficient shear adhesive strength in the same direction as the surface, weak adhesive strength in the direction perpendicular to the surface, and has excellent antistatic performance. This adsorptive temporary fixing sheet, which has a foam layer having an open-cell structure, has a surface resistivity of 1.0×104 to 1.0×1010 Ω/2, and, defining V1 (N/1cm2) as the silicon chip perpendicular adhesive strength of the surface of said foam layer after 18 hours at -30°C, V2 (N/1cm2) as the silicon chip perpendicular adhesive strength after 18 hours at 23°C and V3 (N/1cm2) as the silicon chip perpendicular adhesive strength after 18 hours at 80°C, and defining H1 (N/1cm2) as the silicon chip shear adhesive strength of the surface of said foam layer after 18 hours at -30°C, H2 (N/1cm2) as the silicon chip shear adhesive strength after 18 hours at 23°C and H3 (N/1cm2) as the silicon chip shear adhesive strength after 18 hours at 80°C, it holds that V1 < H1, V2 < H2 and V3 < H3.
(FR) L'invention fournit une feuille de fixation temporaire par aspiration qui possède une force d'adhésion au cisaillement suffisante dans la même direction que sa surface, mais possède une force d'adhésion faible dans une direction perpendiculaire à sa surface, et qui possède d'excellentes performances antistatiques. La feuille de fixation temporaire par aspiration de l'invention possède une couche de mousse équipée d'une structure en alvéoles ouvertes. Sa résistivité de surface est comprise entre 1,0×10Ω/2 et 1,0×1010Ω/2. Lorsqu'une force d'adhésion perpendiculaire à une puce de silicium de la surface de la couche de mousse après 18 heures à -30℃ est représentée par V1(N/1cm2), qu'une force d'adhésion perpendiculaire à la puce de silicium après 18 heures à 23°C est représentée par V2(N/1cm2), et qu'une force d'adhésion perpendiculaire à la puce de silicium après 18 heures à 80°C est représentée par V3(N/1cm2), et lorsqu'une force d'adhésion au cisaillement de puce de silicium de la surface de la couche de mousse après 18 heures à -30℃ est représentée par H1(N/1cm2), qu'une force d'adhésion au cisaillement de puce de silicium après 18 heures à 23°C est représentée par H2(N/1cm2), et qu'une force d'adhésion au cisaillement de puce de silicium après 18 heures à -80°C est représentée par H3(N/1cm2), alors V1<H1, V2<H2 et V3<H3.
(JA) 表面と同じ方向には十分なせん断接着力を有し、表面に対して垂直方向には弱い接着力を有し、優れた帯電防止性能を有する、吸着仮固定シートを提供する。 本発明の吸着仮固定シートは、連続気泡構造を備える発泡層を有する吸着仮固定シートであって、表面抵抗率が1.0×10Ω/□~1.0×1010Ω/□であり、該発泡層の表面の、-30℃で18時間後のシリコンチップ垂直接着力をV1(N/1cm□)、23℃で18時間後のシリコンチップ垂直接着力をV2(N/1cm□)、80℃で18時間後のシリコンチップ垂直接着力をV3(N/1cm□)とし、該発泡層の表面の、-30℃で18時間後のシリコンチップせん断接着力をH1(N/1cm□)、23℃で18時間後のシリコンチップせん断接着力をH2(N/1cm□)、80℃で18時間後のシリコンチップせん断接着力をH3(N/1cm□)としたとき、V1<H1、V2<H2、V3<H3である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)