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1. (WO2019064576) DISPOSITIF DE MANIPULATION DE SUBSTRAT, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉCRAN PLAT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
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N° de publication : WO/2019/064576 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035709
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 29.09.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
677
pour le transport, p.ex. entre différents postes de travail
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs :
青木保夫 AOKI, Yasuo; JP
Mandataire :
片山修平 KATAYAMA, Shuhei; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SUBSTRATE HANDING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, METHOD FOR PRODUCING FLAT PANEL DISPLAY, DEVICE PRODUCTION METHOD, SUBSTRATE HANDLING METHOD, AND EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF DE MANIPULATION DE SUBSTRAT, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉCRAN PLAT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、基板搬送方法、及び露光方法
Abrégé :
(EN) In order to shorten the time required for substrate replacement, this substrate handling device (100A) which transports a substrate (P2) to the holding surface (TS) of a holding device which can hold the substrate (P2) comprises: a first holding portion (161A) which has a substrate holding surface which holds the substrate (P2) above the holding device; a second holding portion (184A) which holds part of the substrate (P2) held by the first holding portion (161A) at a position between the holding surface (TS) and the substrate holding surface with respect to the vertical direction; and a drive unit (164) which moves the holding device, the second holding portion (184A) and the first holding portion (161A) relative to one another in a state in which the second holding portion (184A) holds part of the substrate (P2), in order that the first holding portion (161A) is retracted from above the holding device.
(FR) Afin de raccourcir le temps nécessaire au remplacement d'un substrat, l'invention concerne un dispositif de manipulation de substrat (100A) transportant un substrat (P2) vers la surface de support (TS) d'un dispositif de support qui peut porter le substrat (P2), qui comprend : une première partie de support (161A) qui a une surface de support de substrat qui porte le substrat (P2) au-dessus du dispositif de support ; une seconde partie de support (184A) qui porte une partie du substrat (P2) maintenue par la première partie de support (161A) dans une position entre la surface de support (TS) et la surface de support de substrat par rapport à la direction verticale ; et une unité d'entraînement (164) qui déplace le dispositif de support, la seconde partie de support (184A) et la première partie de support (161A) l'une par rapport à l'autre dans un état dans lequel la seconde partie de support (184A) porte une partie du substrat (P2), afin que la première partie de support (161A) soit rétractée depuis le dessus du dispositif de support.
(JA) 基板交換にかかる時間を短縮するため、基板(P2)を保持可能な保持装置の保持面(TS)へ前記基板(P2)を搬送する基板搬送装置(100A)において、前記保持装置の上方で前記基板(P2)を保持する基板保持面を有する第1保持部(161A)と、上下方向に関して前記保持面(TS)と前記基板保持面との間の位置で、前記第1保持部(161A)に保持された前記基板(P2)の一部を保持する第2保持部(184a)と、前記第1保持部(161A)が前保持装置の上方から退避されるように、前記第2保持部(184a)が前記基板(P2)の前記一部を保持した状態で、前記保持装置及び前記第2保持部(184a)と前記第1保持部(161A)とを相対移動させる駆動部(164)と、を備える基板搬送装置(100A)である。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)