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1. (WO2019064530) APPAREIL À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET ÉLÉMENT PHOTOÉLECTRIQUE
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N° de publication : WO/2019/064530 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035598
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 29.09.2017
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/073 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
06
Sources d'électrons; Canons à électrons
073
Canons à électrons utilisant des sources d'électrons à émission par effet de champ, à photo-émission ou à émission secondaire
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs :
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
Mandataire :
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND PHOTOELECTRIC ELEMENT
(FR) APPAREIL À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET ÉLÉMENT PHOTOÉLECTRIQUE
(JA) 電子ビーム装置、デバイス製造方法、露光方法及び光電素子
Abrégé :
(EN) An electron beam apparatus comprises: a plurality of light emitting units (84a); and an electron beam optical system that makes electrons into a plurality of electron beams (EB) and can bombard a target therewith, said electrons being emitted from a photoelectric conversion layer (60) by the photoelectric conversion layer (60) being irradiated with a plurality of light beams (LB) due to the light emission of the plurality of light emitting units, wherein the lights from each of the plurality of light emitting units are incident on the photoelectric conversion layer (60) without passing through a space.
(FR) Cette invention concerne un appareil à faisceau électronique, comprenant : une pluralité d'unités d'émission de lumière (84a) ; et un système optique à faisceau électronique qui forme des électrons en une pluralité de faisceaux électroniques (EB) et peut bombarder une cible avec ceux-ci, lesdits électrons étant émis à partir d'une couche de conversion photoélectrique (60) sous l'effet de l'irradiation de couche de conversion photoélectrique (60) par une pluralité de faisceaux lumineux (LB) provenant de l'émission de lumière de la pluralité d'unités d'émission de lumière, la lumière provenant de chacune de la pluralité d'unités d'émission de lumière étant incidente sur la couche de conversion photoélectrique (60) sans passer à travers un espace.
(JA) 電子ビーム装置は、複数の発光部(84a)と、複数の発光部の発光により複数の光ビーム(LB)が光電変換層(60)に照射されることによって光電変換層(60)から放出される電子を複数の電子ビーム(EB)としてターゲットに照射可能な電子ビーム光学系と、を備え、複数の発光部それぞれからの光は、空間を介さずに光電変換層(60)に入射する。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)