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1. (WO2019064521) APPAREIL À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
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N° de publication : WO/2019/064521 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035581
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 29.09.2017
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/305 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
305
pour couler, fondre, évaporer ou décaper
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs :
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
Mandataire :
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
Abrégé :
(EN) An electron beam exposure apparatus has a plurality of electron beam optical systems (70i) that each make electrons into an electron beam (EB) and bombard a target therewith, said electrons being produced from a photoelectric conversion layer of a photoelectric element (54i) due to irradiation with at least one light beam. Each of the plurality of electron beam optical systems (70i) has electromagnetic lenses (e.g. 70a, 70b), and pathway members (e.g. 196i, 202i) that delineate electron beam pathways from a space (34) in which a plurality of the photoelectric elements (54i) are positioned. The electron beam pathways are each isolated from spaces in which the electromagnetic lenses are positioned.
(FR) Cette invention concerne un appareil d'exposition à un faisceau électronique, comprenant une pluralité de systèmes optiques à faisceau électronique (70i) dont chacun forme des électrons en un faisceau électronique (EB) et bombarde une cible avec celui-ci, lesdits électrons étant produits à partir d'une couche de conversion photoélectrique d'un élément photoélectrique (54i) sous l'effet d'une irradiation avec au moins un faisceau lumineux. Chacun de la pluralité de systèmes optiques à faisceau électronique (70i) comprend des lentilles électromagnétiques (par exemple, 70a, 70b), et des éléments de trajet (par exemple 196i, 202i) qui délimitent des trajets de faisceau électronique dans un espace (34) dans lequel une pluralité des éléments photoélectriques (54i) sont positionnés. Chacun des trajets de faisceau électronique est isolée des espaces dans lesquels les lentilles électromagnétiques sont positionnées.
(JA) 電子ビーム露光装置は、少なくとも1つの光ビームの照射により光電素子(54)の光電変換層から発生する電子を電子ビーム(EB)としてターゲットに照射する電子ビーム光学系(70)を複数有し、複数の電子ビーム光学系(70)のそれぞれは、電磁レンズ(70a、70b等)と、光電素子(54)が複数配置された空間(34)から電子ビームの通路を区画する通路部材(196、202等)と、を有し、電子ビームの各通路は、電磁レンズが配置される空間から隔離されている。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)