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1. (WO2019064511) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication : WO/2019/064511 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035556
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 29.09.2017
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01) ,H01J 37/305 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
06
Sources d'électrons; Canons à électrons
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
305
pour couler, fondre, évaporer ou décaper
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs :
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
Mandataire :
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
Abrégé :
(EN) An electron beam apparatus comprises: a light irradiation apparatus (80) that irradiates a photoelectric element (54) with light; and an electron beam optical system (70) that bombards a wafer W with a an electron beam produced from the photoelectric element due to the irradiation with light by the light irradiation apparatus (80), wherein the light irradiation apparatus (80) has an illumination system, an optical device that produces a plurality of light beams using the light from the illumination system, a first deflection part that deflects the light from the illumination system, a second deflection part that deflects a plurality of light beams from a pattern generator, and a projection system that irradiates the photoelectric element with at least one light beam from the second deflection part.
(FR) L'invention concerne un appareil à faisceau d'électrons comprenant : un appareil d'éclairement lumineux (80) qui éclaire un élément photoélectrique (54) avec de la lumière ; et un système optique à faisceau d'électrons (70) qui bombarde une galette W avec un faisceau d'électrons produit à partir de l'élément photoélectrique en raison de l'éclairement avec de la lumière par l'appareil d'éclairement lumineux (80). L'appareil d'éclairement lumineux (80) comprend un système d'éclairement, un dispositif optique qui produit une pluralité de faisceaux lumineux en utilisant la lumière provenant du système d'éclairement, une première partie de déviation qui dévie la lumière provenant du système d'éclairement, une deuxième partie de déviation qui dévie une pluralité de faisceaux lumineux provenant d'un générateur de motifs, et un système de projection qui éclaire l'élément photoélectrique avec au moins un faisceau lumineux provenant de la deuxième partie de déviation.
(JA) 電子ビーム装置は、光電素子(54)に光を照射する光照射装置(80)と、光照射装置(80)による光の照射によって光電素子から発生する電子ビームをウエハWに照射する電子ビーム光学系(70)と、を備え、光照射装置(80)は、照明系と、照明系からの光で複数の光ビームを発生させる光学デバイスと、照明系からの光を偏向する第1偏向部と、パターンジェネレータからの複数の光ビームを偏向する第2偏向部と、第2偏向部からの少なくとも1つの光ビームを光電素子に照射する投影系と、を有する。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)