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1. (WO2019064473) MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DUDIT MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE
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N° de publication : WO/2019/064473 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035417
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 29.09.2017
CIB :
C23C 14/24 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
24
Evaporation sous vide
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
10
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des sources de lumière électroluminescentes
Déposants :
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventeurs :
中村 謙太 NAKAMURA, Kenta; --
Mandataire :
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) VAPOR DEPOSITION MASK, MANUFACTURING METHOD FOR VAPOR DEPOSITION MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY DEVICE
(FR) MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DUDIT MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法及び表示装置の製造方法
Abrégé :
(EN) Two divided masks (22a, 22b) adjoin in a second direction of the vapor deposition mask and have an overlap region (OR1) where the divided masks partially overlap each other in plan view, wherein the pitch (P) in the second direction between openings (23a) in multiple divided masks (22a, 22b) including the overlap region (OR1) is the same as the pitch (P) in the second direction between openings (23a) in each of the multiple divided masks (22a, 22b).
(FR) Deux masques divisés (22a, 22b) se rejoignent dans une seconde direction du masque de dépôt en phase vapeur et comportent une région de chevauchement (OR1) dans laquelle les masques divisés se chevauchent partiellement dans une vue en plan, le pas (P) dans la seconde direction entre des ouvertures (23a) dans de multiples masques divisés (22a, 22b), y compris la région de chevauchement (OR1), est identique au pas (P) dans la seconde direction entre des ouvertures (23a) dans chacun des multiples masques divisés (22a, 22b).
(JA) 蒸着用マスクの第2方向において、互いに隣接する2つのディバイデッドマスク(22a、22b)は、平面視において互いに一部が重なる重なり領域(OR1)を有し、重なり領域(OR1)を含む複数のディバイデッドマスク(22a、22b)における開口(23a)間の第2方向におけるピッチ(P)は、複数のディバイデッドマスク(22a、22b)各々における開口(23a)間の第2方向におけるピッチ(P)と同じである。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)