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1. (WO2019064426) SOURCE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
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N° de publication : WO/2019/064426 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035217
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 28.09.2017
CIB :
C23C 14/24 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
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REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
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caractérisé par le procédé de revêtement
24
Evaporation sous vide
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
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Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50
spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
10
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des sources de lumière électroluminescentes
Déposants :
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventeurs :
西口 昌男 NISHIGUCHI, Masao; --
Mandataire :
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) VAPOR DEPOSITION SOURCE, VAPOR DEPOSITION DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING VAPOR DEPOSITION FILM
(FR) SOURCE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法
Abrégé :
(EN) A vapor deposition source (1) is provided with an accommodating part (2) for accommodating vapor deposition particles (11), and a plurality of nozzles (3) arranged in a line along an X-axis direction, the plurality of nozzles at end parts in the X-axis direction of the accommodating part protruding in an oblique direction toward the end parts in the X-axis direction, the arrangement density of the nozzles in the end parts in the X-axis direction of the accommodating part being greater than the arrangement density of nozzles in a center part of the accommodating part, and a line (L2) connecting top end surfaces (32) of adjacent nozzles in the end parts in the X-axis direction of the accommodating part being a straight line.
(FR) L'invention concerne une source de dépôt en phase vapeur (1), qui est pourvue d'une partie de réception (2), destinée à recevoir des particules de dépôt en phase vapeur (11), et d'une pluralité de buses (3) agencées en ligne le long d'une direction d'axe X, la pluralité de buses au niveau de parties d'extrémité dans la direction d'axe X de la partie de réception faisant saillie dans une direction oblique vers les parties d'extrémité dans la direction d'axe X, la densité d'agencement des buses dans les parties d'extrémité dans la direction d'axe X de la partie de réception étant supérieure à la densité d'agencement de buses dans une partie centrale de la partie de réception, et une ligne (L2) reliant des surfaces d'extrémité supérieure (32) de buses adjacentes dans les parties d'extrémité dans la direction d'axe X de la partie de réception étant une ligne droite.
(JA) 蒸着源(1)は、蒸着粒子(11)を収容する収容部(2)と、X軸方向に沿ってライン状に配列された複数のノズル(3)と、を備え、収容部のX軸方向端部の複数のノズルは、X軸方向端部に向かって斜め方向に突出し、収容部のX軸方向端部におけるノズルの配設密度は、収容部の中央部におけるノズルの配設密度よりも高く、収容部のX軸方向端部において隣り合うノズルの上端面(32)同士を結ぶ線(L2)が直線状である。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)