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1. (WO2019064420) MASQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
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N° de publication : WO/2019/064420 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035195
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 28.09.2017
CIB :
C23C 14/24 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
24
Evaporation sous vide
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
10
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des sources de lumière électroluminescentes
Déposants :
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventeurs :
山渕 浩二 YAMABUCHI, Koji; --
西口 昌男 NISHIGUCHI, Masao; --
Mandataire :
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) VAPOR DEPOSITION MASK AND VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD
(FR) MASQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
Abrégé :
(EN) In the present invention, first regions (YA1) in an effective section (YA) formed in a mask sheet (15) are provided for each of active regions (3) of a substrate to be vapor-deposited and have a shape corresponding to each of the active regions (3). Second regions (YA2) of the effective section (YA) are outside the first regions (YA1), and a plurality of vapor deposition holes (H) are shielded by a howling sheet (13).
(FR) Dans la présente invention, des premières régions (YA1) dans une section efficace (YA) formées dans une feuille de masque (15) sont prévues pour chacune des régions actives (3) d'un substrat destiné au dépôt en phase vapeur et ont une forme correspondant à chacune des régions actives (3). Des secondes régions (YA2) de la section efficace (YA) sont à l'extérieur des premières régions (YA1), et une pluralité de trous de dépôt en phase vapeur (H) sont protégés par une feuille sonore (13).
(JA) マスクシート(15)に形成された有効部(YA)のうち第1領域(YA1)は、被蒸着基板のアクティブ領域(3)毎に設けられアクティブ領域(3)に対応する形状であり、有効部(YA)の第2領域(YA2)は、第1領域(YA1)外であって、ハウリングシート(13)により複数の蒸着孔(H)が遮蔽されている。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)