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1. (WO2019064418) MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
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N° de publication : WO/2019/064418 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035188
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 28.09.2017
CIB :
C23C 14/04 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
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REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
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Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
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Revêtement de parties déterminées de la surface, p.ex. au moyen de masques
Déposants :
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventeurs :
中島 信作 NAKAJIMA, Shinsaku; --
Mandataire :
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) VAPOR DEPOSITION MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING VAPOR DEPOSITION MASK
(FR) MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
Abrégé :
(EN) An effective section (YA) formed in a mask sheet (15) has a first region (YA1) and second regions (YA2), the first region (YA1) is provided in each active region (3) of a substrate to be subjected to vapor deposition, and has a shape corresponding to the active region (3), and the second regions (YA2) are outside of the first region (YA1), and are respectively provided with blocking sections (25) for blocking a plurality of vapor deposition holes (H).
(FR) Selon la présente invention, une section efficace (YA) formée dans une feuille de masque (15) comporte une première région (YA1) et des deuxièmes régions (YA2), la première région (YA1) est disposée dans chaque région active (3) d’un substrat à soumettre à un dépôt en phase vapeur, et a une forme correspondant à la région active (3), et les deuxièmes régions (YA2) sont à l’extérieur de la première région (YA1), et sont respectivement pourvues de sections de blocage (25) pour bloquer une pluralité de trous de dépôt en phase vapeur (H).
(JA) マスクシート(15)に形成された有効部(YA)は第1領域(YA1)および第2領域(YA2)を有し、第1領域(YA1)は、被蒸着基板のアクティブ領域(3)毎に設けられ、アクティブ領域(3)に対応する形状であり、第2領域(YA2)は、第1領域(YA1)外であって、複数の蒸着孔(H)を遮蔽する遮蔽部(25)が設けられている。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)