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1. (WO2019063558) AMÉLIORATION DU CONTRASTE D'IMAGE DANS L'INSPECTION D'ÉCHANTILLONS
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N° de publication : WO/2019/063558 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/075984
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 25.09.2018
CIB :
H01J 37/02 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
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Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
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avec faisceaux de balayage
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
WANG, Yixiang; US
ZHANG, Frank, Nan; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/566,19529.09.2017US
Titre (EN) IMAGE CONTRAST ENHANCEMENT IN SAMPLE INSPECTION
(FR) AMÉLIORATION DU CONTRASTE D'IMAGE DANS L'INSPECTION D'ÉCHANTILLONS
Abrégé :
(EN) Disclosed herein is a method comprising: depositing a first amount of electric charges into a region of a sample, during a first time period; depositing a second amount of electric charges into the region, during a second time period; while scanning a probe spot generated on the sample by a beam of charged particles, recording from the probe spot signals representing interactions of the beam of charged particles and the sample; wherein an average rate of deposition during the first time period and an average rate of deposition during the second time period are different.
(FR) L'invention concerne un procédé consistant : à déposer une première quantité de charges électriques dans une région d'un échantillon, pendant une première durée ; à déposer une seconde quantité de charges électriques dans la région, pendant une seconde durée ; lors du balayage d'un point de sonde généré sur l'échantillon par un faisceau de particules chargées, à enregistrer à partir des signaux de point de sonde représentant des interactions du faisceau de particules chargées avec l'échantillon. Le taux moyen de dépôt pendant la première durée diffère du taux moyen de dépôt pendant la seconde durée.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)