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1. (WO2019063531) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE COMMANDE DE CHARGE AVANCÉE POUR INSPECTION DE TRANCHE
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N° de publication : WO/2019/063531 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/075929
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 25.09.2018
CIB :
H01J 37/22 (2006.01) ,G01N 23/00 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
22
Dispositifs optiques ou photographiques associés au tube
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules) non couvertes par le groupe G01N21/ ou G01N22/183
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
ZHANG, Jian; US
CHEN, Qing, Jiu; TW
WANG, Yixiang; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/566,21229.09.2017US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR AN ADVANCED CHARGED CONTROLLER FOR WAFER INSPECTION
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE COMMANDE DE CHARGE AVANCÉE POUR INSPECTION DE TRANCHE
Abrégé :
(EN) A system and method for advanced charge control of a light beam is provided. The system comprising a laser source comprising a laser diode for emitting a beam and a beam homogenizer to homogenize the emitted beam. The system and methods further comprise a beam shaper configured to shape the emitted beam using an anamorphic prism group and a driver configured to direct the shaped beam to a specified position on a wafer, wherein the laser source, the beam shaper, and the driver are coaxially aligned.
(FR) La présente invention concerne un système et un procédé de commande de charge avancée d'un faisceau lumineux. Le système comprend une source laser comprenant une diode laser pour émettre un faisceau, et un homogénéisateur de faisceau pour homogénéiser le faisceau émis. Le système et les procédés comprennent en outre un dispositif de mise en forme de faisceau configuré pour mettre en forme le faisceau émis à l'aide d'un groupe de prismes anamorphiques, et un pilote configuré pour diriger le faisceau mis en forme vers une position spécifiée sur une tranche, la source laser, le dispositif de mise en forme de faisceau et le pilote étant alignés coaxialement.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)