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1. (WO2019063530) PROCÉDÉS ET APPAREILS POUR AJUSTER UN ÉTAT DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
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N° de publication : WO/2019/063530 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/075928
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 25.09.2018
CIB :
H01J 37/26 (2006.01) ,H01J 37/302 (2006.01) ,H01J 37/147 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
302
Commande des tubes par une information d'origine externe, p.ex. commande par programme
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
147
Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
LIU, Xuedong; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/566,14929.09.2017US
Titre (EN) METHODS AND APPARATUSES FOR ADJUSTING BEAM CONDITION OF CHARGED PARTICLES
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREILS POUR AJUSTER UN ÉTAT DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Abrégé :
(EN) Apparatus and methods for adjusting beam condition of charged particles are disclosed. According to certain embodiments, the apparatus includes one or more first multipole lenses displaced above an aperture, the one or more first multipole lenses being configured to adjust a beam current of a charged-particle beam passing through the aperture. The apparatus also includes one or more second multipole lenses displaced below the aperture, the one or more second multipole lenses being configured to adjust at least one of a spot size and a spot shape of the beam.
(FR) L'invention concerne un appareil et des procédés permettant d'ajuster un état de faisceau de particules chargées. Selon certains modes de réalisation, l'appareil comprend une ou plusieurs premières lentilles multipolaires déplacées au-dessus d'une ouverture, l'une ou plusieurs premières lentilles multipolaires étant configurées pour ajuster un courant de faisceau d'un faisceau de particules chargées passant à travers l'ouverture. L'appareil comprend également une ou plusieurs secondes lentilles multipolaires déplacées au-dessous de l'ouverture, l'une ou plusieurs secondes lentilles multipolaires étant configurées pour ajuster la taille de spot et/ou une forme de spot du faisceau.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)