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1. (WO2019063433) SYSTÈME DE DÉTECTION DE HAUTEUR OPTIQUE
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N° de publication : WO/2019/063433 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/075621
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 21.09.2018
CIB :
H01J 37/22 (2006.01) ,H01J 37/244 (2006.01) ,H01J 37/30 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
22
Dispositifs optiques ou photographiques associés au tube
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
244
Détecteurs; Composants ou circuits associés
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
ZHANG, Jian; US
KANG, Zhiwen; US
WANG, Yixiang; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/564,99428.09.2017US
Titre (EN) OPTICAL HEIGHT DETECTION SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE DÉTECTION DE HAUTEUR OPTIQUE
Abrégé :
(EN) An optical height detection system in a charged particle beam inspection system. The optical height detection system includes a projection unit including a modulated illumination source, a projection grating mask including a projection grating pattern, and a projection optical unit for projecting the projection grating pattern to a sample; and a detection unit including a first detection grating mask including a first detection grating pattern, a second detection grating mask including a second detection grating pattern, and a detection optical system for forming a first grating image from the projection grating pattern onto the first detection grating mask and forming a second grating image from the projection grating pattern onto the second detection grating masks. The first and second detection grating patterns at least partially overlap the first and second grating images, respectively.
(FR) La présente invention concerne un système de détection de hauteur optique dans un système d'inspection de faisceau de particules chargées. Le système de détection de hauteur optique comprend une unité de projection comprenant une source d'éclairage modulée, un masque de réseau de projection comprenant un motif de réseau de projection, et une unité optique de projection permettant de projeter le motif de réseau de projection sur un échantillon; et une unité de détection comprenant un premier masque de réseau de détection comprenant un premier motif de réseau de détection, un second masque de réseau de détection comprenant un second motif de réseau de détection, et un système optique de détection permettant de former une première image de réseau à partir du motif de réseau de projection sur le premier masque de réseau de détection et former une seconde image de réseau à partir du motif de réseau de projection sur les seconds masques de réseau de détection. Les premier et second motifs de réseau de détection chevauchent au moins partiellement les première et seconde images de réseau, respectivement.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)