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1. (WO2019063313) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE MÉTROLOGIE
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N° de publication : WO/2019/063313 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/074841
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 14.09.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants :
ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
SHMAREV, Yevgeniy, Konstantinovich; US
PANDEY, Nitesh; NL
KOOLEN, Armand, Eugene, Albert; NL
Mandataire :
SLENDERS, Peter; NL
Données relatives à la priorité :
62/565,03328.09.2017US
Titre (EN) METROLOGY METHOD AND DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE MÉTROLOGIE
Abrégé :
(EN) An inspection apparatus, including: an objective configured to receive diffracted radiation from a metrology target having positive and negative diffraction order radiation; an optical element configured to separate the diffracted radiation into portions separately corresponding to each of a plurality of different values or types of one or more radiation characteristics and separately corresponding to the positive and negative diffraction orders; and a detector system configured to separately and simultaneously measure the portions.
(FR) La présente invention concerne un appareil d'inspection qui comprend : un objectif configuré pour recevoir un rayonnement diffracté provenant d'une cible de métrologie ayant un rayonnement doté d'un ordre de diffraction positif et négatif ; un élément optique configuré pour séparer le rayonnement diffracté en parties correspondant séparément à chaque valeur ou type d'une pluralité de valeurs ou de types différents d'une ou de plusieurs caractéristiques de rayonnement et correspondant séparément aux ordres de diffraction positif et négatif ; et un système de détection configuré pour mesurer séparément et simultanément les parties.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)