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1. (WO2019063247) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR LA CARACTÉRISATION DE LA FORME SUPERFICIELLE D'UN ÉLÉMENT OPTIQUE
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N° de publication : WO/2019/063247 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/073703
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 04.09.2018
CIB :
G01B 9/02 (2006.01) ,G01B 11/24 (2006.01) ,G01M 11/00 (2006.01) ,G01M 11/02 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G06T 7/55 (2017.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
9
Instruments tels que spécifiés dans les sous-groupes et caractérisés par l'utilisation de moyens de mesure optiques
02
Interféromètres
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
11
Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de moyens optiques
24
pour mesurer des contours ou des courbes
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
M
ESSAI D'ÉQUILIBRAGE STATIQUE OU DYNAMIQUE DES MACHINES, DES STRUCTURES OU DES OUVRAGES; ESSAI DES STRUCTURES, DES OUVRAGES OU DES APPAREILS, NON PRÉVU AILLEURS
11
Essai des appareils d'optique; Essai des structures ou ouvrages par des méthodes optiques, non prévu ailleurs
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
M
ESSAI D'ÉQUILIBRAGE STATIQUE OU DYNAMIQUE DES MACHINES, DES STRUCTURES OU DES OUVRAGES; ESSAI DES STRUCTURES, DES OUVRAGES OU DES APPAREILS, NON PRÉVU AILLEURS
11
Essai des appareils d'optique; Essai des structures ou ouvrages par des méthodes optiques, non prévu ailleurs
02
Essai des propriétés optiques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
[IPC code unknown for G06T 7/55]
Déposants :
RIEPENHAUSEN, Frank [DE/DE]; DE (US)
SCHRÖTER, Martin [DE/DE]; DE (US)
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
Inventeurs :
RIEPENHAUSEN, Frank; DE
SCHRÖTER, Martin; DE
Mandataire :
FRANK, Hartmut; DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 217 371.829.09.2017DE
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR CHARACTERISING THE SURFACE SHAPE OF AN OPTICAL ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR LA CARACTÉRISATION DE LA FORME SUPERFICIELLE D'UN ÉLÉMENT OPTIQUE
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR CHARAKTERISIERUNG DER OBERFLÄCHENFORM EINES OPTISCHEN ELEMENTS
Abrégé :
(EN) The invention relates to a method and a device for characterising the surface shape of an optical element, in particular a mirror or a lens of a micro-lithographic projection exposure system. A method according to the invention comprises the following steps: carrying out a plurality of interferometric measurements, in which a respective interferogram is recorded between a test wave coming from a respective section of the optical element and a reference wave, wherein the position of the optical element is altered relative to the test wave between these measurements; and calculating the deviation from the target shape of an optical element on the basis of these measurements, wherein this calculation occurs iteratively in such a way that, in a plurality of iteration steps, the deviation from the target shape of the optical element is determined by carrying out a forward calculation, wherein each of these iteration steps is based on a respective reference wave adjusted on the basis of the preceding iteration step.
(FR) L'invention concerne un procédé et un dispositif pour la caractérisation de la forme superficielle d'un élément optique, en particulier d'un miroir ou d'une lentille d'une installation d'éclairage par projection microlithographique. Un procédé selon l'invention présente les étapes suivantes, consistant à : réaliser une multitude de mesures par interférométrie, lors desquelles à chaque fois un interférogramme entre une onde de test partant à chaque fois d'une section de l'élément optique et une onde de référence est enregistré, la position de l'élément optique par rapport à l'onde de test étant modifiée entre ces mesures, et calculer la couleur de l'élément optique sur la base de ces mesures, ce calcul étant effectué par itération de manière telle que dans une multitude d'étapes d'itération, la couleur de l'élément optique est déterminée à chaque fois tout en effectuant un calcul vers l'avant, chacune de ces étapes d'itération se faisant sur la base d'une onde référence adaptée sur la base de l'étape d'itération précédente.
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements, insbesondere eines Spiegels oder einer Linse einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Durchführen einer Mehrzahl von interferometrischen Messungen, bei welchen jeweils ein Interferogramm zwischen einer von jeweils einem Abschnitt des optischen Elements ausgehenden Prüfwelle und einer Referenzwelle aufgenommen wird, wobei zwischen diesen Messungen die Position des optischen Elements relativ zur Prüfwelle verändert wird, und Berechnen der Passe des optischen Elements auf Basis dieser Messungen, wobei dieses Berechnen iterativ in solcher Weise erfolgt, dass in einer Mehrzahl von Iterationsschritten die Passe des optischen Elements jeweils unter Durchführung einer Vorwärtsrechnung ermittelt wird, wobei jedem dieser Iterationsschritte jeweils eine auf Basis des vorangegangen Iterationsschrittes angepasste Referenzwelle zugrundegelegt wird.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)