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1. (WO2019063245) PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication : WO/2019/063245 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/073663
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 04.09.2018
CIB :
G03F 9/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
TINNEMANS, Patricius, Aloysius Jacobus; NL
HULSEBOS, Edo, Maria; NL
MEGENS, Henricus, Johannes, Lambertus; NL
ERDAMAR, Ahmet Koray; NL
VERHEES, Loek, Johannes, Petrus; NL
ROELOFS, Willem, Seine, Christian; NL
VAN DE VEN, Wendy, Johanna, Martina; NL
YAGUBIZADE, Hadi; NL
CEKLI, Hakki, Ergun; NL
BRINKHOF, Ralph; NL
VU, Tran, Thanh, Thuy; NL
GOOSEN, Maikel, Robert; NL
VAN T WESTEINDE, Maaike; NL
KOU, Weitian; NL
RIJPSTRA, Manouk; NL
COX, Matthijs; NL
BIJNEN, Franciscus, Godefridus, Casper; NL
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
17193637.028.09.2017EP
18164511.028.03.2018EP
18166720.511.04.2018EP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC METHOD
(FR) PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) A method for determining one or more optimized values of an operational parameter of a sensor system configured for measuring a property of a substrate is disclosed the method comprising: determining a quality parameter for a plurality of substrates; determining measurement parameters for the plurality of substrates obtained using the sensor system for a plurality of values of the operational parameter; comparing a substrate to substrate variation of the quality parameter and a substrate to substrate variation of a mapping of the measurement parameters; and determining the one or more optimized values of the operational parameter based on the comparing.
(FR) Procédé pour déterminer une ou plusieurs valeurs optimisées d'un paramètre de fonctionnement d'un système de capteur conçu pour mesurer une propriété d'un substrat, le procédé consistant à : déterminer un paramètre de qualité pour une pluralité de substrats; déterminer des paramètres de mesure pour la pluralité de substrats obtenus à l'aide du système de capteur pour une pluralité de valeurs du paramètre de fonctionnement; comparer une variation substrat à substrat du paramètre de qualité et une variation substrat à substrat d'un mappage des paramètres de mesure; et déterminer la ou les valeurs optimisées du paramètre de fonctionnement sur la base de la comparaison.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)