Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019063180) PROCÉDÉ D'ÉTALONNAGE D'UN OUTIL D'INSPECTION, ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/063180 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/071682
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 09.08.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G01N 21/93 (2006.01) ,G01N 21/956 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
93
Étalons de détection; Calibrage
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95
caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956
Inspection de motifs sur la surface d'objets
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
HOOGENBOOM, Thomas, Leo, Maria; NL
CRAMER, Hugo, Augustinus, Joseph; NL
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
17193045.626.09.2017EP
18179618.625.06.2018EP
Titre (EN) CALIBRATION METHOD OF AN INSPECTION TOOL, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ D'ÉTALONNAGE D'UN OUTIL D'INSPECTION, ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) A calibration method for an inspection tool, the calibration method comprising determining a calibration parameter of the inspection tool by: receiving data associated with one or more substrates comprising a plurality of target portions onto which a respective plurality of patterns is provided, whereby the plurality of patterns are formed by a semiconductor manufacturing process characterized by a known variation of at least one process parameter with respect to a nominal value; determining a characteristic of each of the plurality of patterns based on the received data; and determining the calibration parameter of the inspection tool, based on the measured characteristics and the known process parameter variation.
(FR) L'invention concerne un procédé d'étalonnage pour un outil d'inspection, le procédé d'étalonnage consistant à déterminer un paramètre d'étalonnage de l'outil d'inspection en: recevant des données associées à un ou plusieurs substrats comprenant une pluralité de parties cibles sur lesquelles une pluralité respective de motifs est fournie, la pluralité de motifs étant formée par un procédé de fabrication de semi-conducteur caractérisé par une variation connue d'au moins un paramètre de processus par rapport à une valeur nominale; en déterminant une caractéristique de chacun de la pluralité de motifs sur la base des données reçues; et en déterminant le paramètre d'étalonnage de l'outil d'inspection, sur la base des caractéristiques mesurées et de la variation de paramètre de processus connue.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)