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1. (WO2019062351) DISPOSITIF DE DÉTECTION DE PLAQUE DE MASQUE, PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE PLAQUE DE MASQUE ET PROCÉDÉ DE COMMANDE DE SOURCE DE LUMIÈRE CORRESPONDANT
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N° de publication : WO/2019/062351 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/100185
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 13.08.2018
CIB :
H04N 5/372 (2011.01) ,H04N 17/00 (2006.01) ,G06T 7/00 (2017.01)
H ÉLECTRICITÉ
04
TECHNIQUE DE LA COMMUNICATION ÉLECTRIQUE
N
TRANSMISSION D'IMAGES, p.ex. TÉLÉVISION
5
Détails des systèmes de télévision
30
Transformation d'informations lumineuses ou analogues en informations électriques
335
utilisant des capteurs d'images à l'état solide [capteurs SSIS] 
369
architecture du capteur SSIS; circuits associés à cette dernière
372
Capteurs à dispositif à couplage de charge [CCD]; Registres d'intégration à temps de retard [TDI] ou registres à décalage spécialement adaptés au capteur SSIS
H ÉLECTRICITÉ
04
TECHNIQUE DE LA COMMUNICATION ÉLECTRIQUE
N
TRANSMISSION D'IMAGES, p.ex. TÉLÉVISION
17
Diagnostic, essai ou mesure, ou leurs détails, pour les systèmes de télévision
G PHYSIQUE
06
CALCUL; COMPTAGE
T
TRAITEMENT OU GÉNÉRATION DE DONNÉES D'IMAGE, EN GÉNÉRAL
7
Analyse d'image, p.ex. à partir d'un mappage binaire pour obtenir un mappage non binaire
Déposants :
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; 中国内蒙古自治区鄂尔多斯市 东胜区装备制造基地 Ordos Equipment Manufacturing Base, DongshengDistrict Ordos, Inner Mongolia 017020, CN
Inventeurs :
林治明 LIN, Zhiming; CN
黄俊杰 HUANG, Chun Chieh; CN
白音必力 BAIYIN, Bili; CN
郝志元 HAO, Zhiyuan; CN
张德 ZHANG, De; CN
辛小林 XIN, Xiaolin; CN
刘旭 LIU, Xu; CN
李冬伟 LI, Dongwei; CN
Mandataire :
中科专利商标代理有限责任公司 CHINA SCIENCE PATENT & TRADEMARK AGENT LTD.; 中国北京市 海淀区西三环北路87号4-1105室 Suite 4-1105, No. 87, West 3rd Ring North Rd., Haidian District Beijing 100089, CN
Données relatives à la priorité :
201710927502.230.09.2017CN
Titre (EN) MASK PLATE DETECTION DEVICE, MASK PLATE DETECTION METHOD AND CORRESPONDING LIGHT SOURCE CONTROL METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DÉTECTION DE PLAQUE DE MASQUE, PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE PLAQUE DE MASQUE ET PROCÉDÉ DE COMMANDE DE SOURCE DE LUMIÈRE CORRESPONDANT
(ZH) 掩模板检测设备、掩模板检测方法以及相应的光源控制方法
Abrégé :
(EN) Provided in an embodiment of the present disclosure are a mask plate detection device, a mask plate detection method, and a corresponding light source control method. The device comprises: an image sensor, which is configured to capture an image of a mask plate; a plurality of light sources, which is arranged on a side of the mask plate opposite to the image sensor, at least one from among the plurality of light sources being capable of emitting light when the image sensor captures an image of a first region of the mask plate; the at least one light source comprises a light source within a first range, the first range corresponding to the first region, and the position of an orthographic projection of the image sensor in a light source plane falling within the first range. The light source control method comprises: when the image sensor moves to a position corresponding to the first region of a mask plate to be inspected, starting at least one light source corresponding to the first region from among the plurality of light sources that is arranged on the side of the mask plate opposite to the image sensor.
(FR) Un mode de réalisation de la présente invention concerne un dispositif de détection de plaque de masque, un procédé de détection de plaque de masque et un procédé de commande de source de lumière correspondant. Le dispositif comprend : un capteur d'image, qui est conçu pour capturer une image d'une plaque de masque ; une pluralité de sources de lumière, qui sont agencées sur un côté de la plaque de masque opposé au capteur d'image, au moins une source de lumière parmi la pluralité de sources de lumière étant apte à émettre de la lumière lorsque le capteur d'image capture une image d'une première région de la plaque de masque ; la ou les sources de lumière comprennent une source de lumière dans une première plage, la première plage correspondant à la première région et la position d'une projection orthographique du capteur d'image dans un plan de source de lumière tombant dans la première plage. Le procédé de commande de source de lumière comprend les étapes suivantes : lorsque le capteur d'image se déplace vers une position correspondant à la première région d'une plaque de masque à inspecter, démarrer au moins une source de lumière correspondant à la première région parmi la pluralité de sources de lumière qui est agencée sur le côté de la plaque de masque opposé au capteur d'image.
(ZH) 本公开实施例提出了掩模板检测设备、掩模板检测方法和相应的光源控制方法。该设备包括:图像传感器,被配置为捕获掩模板的图像;多个光源,布置在所述掩模板的与所述图像传感器相反的一侧,其中,所述多个光源中的至少一个光源能够在所述图像传感器捕获所述掩模板的第一区域的图像时发光,其中,所述至少一个光源包括第一范围内的光源,所述第一范围与所述第一区域相对应且所述图像传感器在光源平面中的正投影的位置落在所述第一范围中。该光源控制方法包括:在图像传感器移动至与待检查掩模板的第一区域相对应的位置处时,开启布置在所述掩模板的与所述图像传感器相反的一侧的多个光源中与所述第一区域相对应的至少一个光源。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)