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1. (WO2019061918) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION D'UN REVÊTEMENT NANOCOMPOSITE TERNAIRE À BASE DE CRISTAUX PHOTONIQUES AAO ABSORBANT LA CHALEUR ET RÉSISTANT AUX TEMPÉRATURES ÉLEVÉES
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N° de publication : WO/2019/061918 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/119621
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 29.12.2017
CIB :
C25D 3/56 (2006.01) ,C25D 11/08 (2006.01) ,C25D 11/20 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
3
Dépôts de métaux par voie électrolytique; Bains utilisés
02
à partir de solutions
56
d'alliages
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
06
caractérisée par les électrolytes utilisés
08
contenant des acides inorganiques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
18
Post-traitement, p.ex. bouchage des pores
20
Post-traitement électrolytique
Déposants :
佛山科学技术学院 FOSHAN UNIVERSITY [CN/CN]; 中国广东省佛山市 禅城区江湾一路18号 No.18, Jiangwan First Road, Chancheng District Foshan, Guangdong 528000, CN
Inventeurs :
陈东初 CHEN, Dongchu; CN
魏红阳 WEI, Hongyang; CN
常萌蕾 CHANG, Menglei; CN
Mandataire :
深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) SZ KINDWALF INTELLECTUAL PROPERTY FIRM; 中国广东省深圳市 南山区深南西路深南花园裙楼A区四层402室 Room 402, 4/F, Building A, Shennan Garden, Shennan West Road, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518057, CN
Données relatives à la priorité :
201710914803.130.09.2017CN
Titre (EN) METHOD FOR PREPARING AAO PHOTONIC CRYSTAL-BASED HIGH-TEMPERATURE RESISTANT TERNARY NANO COMPOSITE HEAT-ABSORBING COATING
(FR) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION D'UN REVÊTEMENT NANOCOMPOSITE TERNAIRE À BASE DE CRISTAUX PHOTONIQUES AAO ABSORBANT LA CHALEUR ET RÉSISTANT AUX TEMPÉRATURES ÉLEVÉES
(ZH) 一种AAO光子晶体基耐高温三元纳米复合吸热涂层的制备方法
Abrégé :
(EN) A method for preparing an AAO photonic crystal-based high-temperature resistant ternary nano composite heat-absorbing coating, comprising the following steps: 1) a pretreated aluminum alloy substrate is put into an H2SO4 electrolyte for periodic voltage-variation oxidation, and a high-purity lead plate is used as a cathode plate; 2) an obtained anodized template is dried after being washed with distilled water, and is put into 105 g/L of H3PO4 solution for alternating current pore enlarging; and 3) the pore-enlarged anodized aluminum alloy is washed with distilled water, and then is put into deposition liquid with nickel sulfate and copper sulfate as main salts for alternating current electro-deposition. An obtained coating has absorptivity of 0.84-0.94 and emissivity of 0.12-0.21; the coating has a firm binding force and good high temperature resistance; and the obtained coating can be applied in the fields of solar water heaters, solar cooker heat collection, high-temperature power generation, and seawater desalination.
(FR) L'invention concerne un procédé de préparation d'un revêtement nanocomposite ternaire à base de cristaux photoniques AAO absorbant la chaleur et résistant aux températures élevées, comprenant les étapes suivantes consistant : 1) à introduire un substrat d'alliage d'aluminium prétraité dans un électrolyte H2SO4 en vue d'une oxydation par variation de tension périodique, et à utiliser une plaque de plomb de haute pureté comme plaque de cathode ; 2) à laver à l'eau distillée puis à sécher une matrice anodisée obtenue, et à introduire cette dernière dans une solution d'H3PO4 à 105 g/l en vue d'un agrandissement des pores par courant alternatif ; et 3) à laver à l'eau distillée l'alliage d'aluminium anodisé à pores agrandis, puis à introduire ce dernier dans un liquide de dépôt contenant du sulfate de nickel et du sulfate de cuivre en tant que sels principaux en vue d'une électrodéposition par courant alternatif. Un revêtement obtenu présente une absorptivité comprise entre 0,84 et 0,94 et une émissivité comprise entre 0,12 et 0,21 ; le revêtement présente une force de liaison ferme et une bonne résistance à haute température ; et le revêtement obtenu peut être appliqué dans les domaines des chauffe-eau solaires, de la collecte de chaleur pour cuiseur solaire, de la production d'énergie à haute température et du dessalement de l'eau de mer.
(ZH) 一种AAO光子晶体基耐高温三元纳米复合吸热涂层的制备方法,包括以下步骤: 1)将经前处理后的铝合金基材放入H 2SO 4的电解液中做周期性变电压氧化,且阴极板采用高纯铅板;2)将得到的阳极氧化模板用蒸馏水水洗后吹干,放入105g/L H 3PO 4溶液中交流扩孔处理; 3)将扩孔后的阳极氧化铝合金用蒸馏水水洗后,放入在以硫酸镍、硫酸铜为主盐的沉积液中进行交流电沉积。制备得到的涂层吸收率在0.84~0.94,发射率在0.12~0.21,涂层结合力牢固,耐高温性能好,得到的涂层可以应用于太阳能热水器、太阳灶集热、高温发电、海水淡化领域。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)