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1. (WO2019061556) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE, ET PHOTOMASQUE
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N° de publication : WO/2019/061556 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/105851
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 12.10.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
Déposants :
武汉华星光电技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国湖北省武汉市 东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋 Building C5, Biolake of Optics Valley No.666 Gaoxin Avenue, Wuhan East Lake High-tech Development Zone Wuhan, Hubei 430000, CN
Inventeurs :
杨昆 YANG, Kun; CN
王幸 WANG, Xing; CN
Mandataire :
深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) SHENZHEN RONDA PATENT AND TRADEMARK LAW OFFICE; 中国广东省深圳市 福田区深南中路求是大厦东座2709-2711 Unit2709-2711 East Block, Qiushi Center Shennan Middle Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518040, CN
Données relatives à la priorité :
201710884143.726.09.2017CN
Titre (EN) MANUFACTURING METHOD FOR SUBSTRATE OF DISPLAY DEVICE, AND PHOTOMASK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE, ET PHOTOMASQUE
(ZH) 一种显示器的基板的制造方法及光罩
Abrégé :
(EN) A manufacturing method for a substrate of a display device, the method comprising: providing a substrate main body (S10); applying a photoresist layer on the substrate main body (S11); using multiple lenses of an exposure device to expose the photoresist layer via a photomask (1), wherein the photomask (1) comprises a direct irradiation region (10, 12) and an overlapping irradiation region (11), the overlapping irradiation region (11) comprises light-transmittable regions (111) and non-light-transmittable regions (110), the direct irradiation region (10, 12) comprises light-transmittable regions (101) and non-light-transmittable regions (100), and each of the light transmittable regions (111) of the overlapping irradiation region (11) has an area greater than or less than the area of each of the light transmittable regions (101) of the direct irradiation region (10, 12) (S12); and developing the exposed photoresist layer to obtain a photoresist pattern (S13). Value compensation is performed on an exposure pattern of the overlapping irradiation region (11) to obtain an accurate exposure pattern, thus increasing product yield.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat d'un dispositif d'affichage, le procédé consistant à : utiliser un corps principal de substrat (S10); appliquer une couche de résine photosensible sur le corps principal de substrat (S11); utiliser de multiples lentilles d'un dispositif d'exposition pour exposer la couche de résine photosensible à travers un photomasque (1), le photomasque (1) comprenant une région d'exposition directe (10, 12) et une région d'exposition par chevauchement (11), la région d'exposition par chevauchement (11) comprenant des régions transmettant la lumière (111) et des régions ne transmettant pas la lumière (110), la région d'exposition directe (10, 12) comprenant des régions transmettant la lumière (101) et des régions ne transmettant pas la lumière (100), et chacune des régions transmettant la lumière (111) de la région d'exposition par chevauchement (11) présentant une surface supérieure ou égale à la surface de chacune des régions transmettant la lumière (101) de la région d'exposition directe (10, 12) (S12); et développer la couche de résine photosensible exposée pour obtenir un motif de résine photosensible (S13). Une compensation de valeur est effectuée sur un motif d'exposition de la région d'exposition par chevauchement (11) pour obtenir un motif d'exposition précis, ce qui permet d'augmenter le rendement du produit.
(ZH) 一种显示器的基板的制造方法,包括:提供一基板本体(S10);在基板本体上涂覆光阻层(S11);利用曝光机多个镜头透过光罩(1)对光阻层进行曝光,其中,光罩(1)包括光线直射区(10,12)以及光线重叠区(11),在光线重叠区(11)中包括透光区(111)以及非透光区(110),在光罩(1)的光线直射区(10,12)中包括透光区(101)以及非透光区(100);其中,光线重叠区(11)的每一透光区(111)的面积均大于或小于光线直射区(10,12)的每一透光区(101)的面积(S12);对曝光后的光阻层进行显影,以获得光阻图案(S13)。对光线重叠区(11)的曝光图案进行补值,从而获得更加准确的曝光图案,能够提高产品良率。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)