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1. (WO2019050801) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE COMBINAISON DE MÉTROLOGIE OPTIQUE ET DE MÉTROLOGIE DES MASSES
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N° de publication : WO/2019/050801 N° de la demande internationale : PCT/US2018/049192
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 31.08.2018
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants :
LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, California 94538, US
Inventeurs :
FENG, Ye; US
ARORA, Rajan; US
SHIELDS, Jason; US
Mandataire :
AQUINO, Damian M.; US
WIGGINS, Michael D.; US
AMBROSE, John; US
BENSON, Tyson B.; US
BERBERICH, Jeanette M.; US
BRENNAN, Michael P.; US
BROCK, Christopher M.; US
CASTELLANO, John A. III; US
CHANG, Alex C.; US
CHAPP, Jeffrey J.; US
CUTLER, Matthew L.; US
DALEY, Donald J.; US
DOERR, Michael P.; US
DOWDY, Stephanie L.; US
DRYSDALE, Nicholas S.; US
ELCHUK, Mark D.; US
ERJAVAC, Stanley M.; US
FALCOFF, Monte L.; US
FITZPATRICK, John W.; US
FORBIS, Glenn E.; US
FOSS, Stephen J.; US
FRENTRUP, Mark A.; US
FULLER, III, Roland A.,; US
FUSSNER, Anthony G.; US
HEIST, Jason A.; US
HILTON, Michael E.; US
HOYT, Blair D.; US
KELLER, Paul A.; US
KESKAR, Hemant M.; US
KORAL, Elizabeth; US
KOTSIS, Damian H.; US
LAFATA, Joseph M.; US
LEE, Kisuk; US
LUCHSINGER, James B.; US
MACINTYRE, Timothy D.; US
MALINZAK, Michael; US
MARTIN, Timothy J.; US
MASSEY, Ryan W.; US
MEYER, Greg W.; US
MIERZWA, Kevin G.; US
MILLER, H. Keith; US
MOUSTAKAS, George D.; US
NABI, Tarik M.; US
NYE, Michael R.; US
OLSON, Stephen T.; US
PANKA, Brian G.; US
RAKERS, Leanne; US
ROBINSON, Douglas A.; US
SCHIVLEY, G. Gregory; US
SCHMIDT, Michael J.; US
SEITZ, Brent G.; US
SIMINSKI, Robert M.; US
SMITH, Corey E.; US
SMITH, Michael L.; US
SNYDER, Jeffrey L.; US
STRAUSS, Ryan N.; US
SUTER, David L.; US
TAYLOR, Michael L.; US
TAYLOR, W.R. Duke; US
TEICH, Michael L.; US
THOMAS, Michael J.; US
TUCKER, JR., David J.; US
UTYKANSKI, David P.; US
VARCO, Michael A.; US
WADE, Bryant E.; US
WALKER, Donald G.; US
WALSH, Joseph E., Jr.; US
WANGEROW, Steven D.; US
WARNER, Richard W.; US
WAXMAN, Andrew M.; US
WELCH, Gerald T.; US
WHEELOCK, Bryan K.; US
WOODSIDE WOJTALA, Jennifer; US
YACURA, Gary D.; US
ZALOBSKY, Michael D.; US
Données relatives à la priorité :
15/696,76806.09.2017US
Titre (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR COMBINING OPTICAL METROLOGY WITH MASS METROLOGY
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE COMBINAISON DE MÉTROLOGIE OPTIQUE ET DE MÉTROLOGIE DES MASSES
Abrégé :
(EN) A metrology system for substrate processing includes an optical metrology station including a plurality of optical sensors to measure spectra from a plurality of measurement locations on a substrate. A plurality of fiber cables are connected to the plurality of optical sensors. A spectrometer is selectively connected to the plurality of fiber cables. A mass metrology station measures at least one of a mass or mass change of the substrate. A controller includes a modelling module to generate thickness values at the plurality of measurement locations based on the spectra from the plurality of measurement locations and a learned model. A spatial modelling module generates a spatial thickness distribution model for the substrate based on the thickness values at the plurality of measurement locations from the modelling module and the at least one of the mass or the mass change from the mass metrology station.
(FR) Un système de métrologie pour traitement de substrat comprend une station de métrologie optique comprenant une pluralité de capteurs optiques pour mesurer des spectres à partir d'une pluralité d'emplacements de mesure sur un substrat. Une pluralité de câbles à fibres sont connectés à la pluralité de capteurs optiques. Un spectromètre est sélectivement connecté à la pluralité de câbles à fibres. Une station de métrologie des masses mesure au moins une masse ou un changement de masse du substrat. Un dispositif de commande comprend un module de modélisation pour générer des valeurs d'épaisseur au niveau de la pluralité d'emplacements de mesure sur la base des spectres à partir de la pluralité d'emplacements de mesure et d'un modèle appris. Un module de modélisation spatiale génère un modèle de répartition spatiale d'épaisseurs pour le substrat sur la base des valeurs d'épaisseurs au niveau de la pluralité d'emplacements de mesure à partir du module de modélisation et de la masse ou du changement de masse à partir de la station de métrologie des masses.
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Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)