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1. (WO2019050717) MOSFET À TRANCHÉE BLINDÉE AUTOALIGNÉE ET PROCÉDÉS DE FABRICATION ASSOCIÉS
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N° de publication : WO/2019/050717 N° de la demande internationale : PCT/US2018/048397
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 28.08.2018
CIB :
H01L 29/423 (2006.01) ,H01L 29/66 (2006.01) ,H01L 21/28 (2006.01) ,H01L 21/768 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
29
Dispositifs à semi-conducteurs spécialement adaptés au redressement, à l'amplification, à la génération d'oscillations ou à la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; Condensateurs ou résistances ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. jonction PN, région d'appauvrissement, ou région de concentration de porteurs de charges; Détails des corps semi-conducteurs ou de leurs électrodes
40
Electrodes
41
caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative
423
ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
29
Dispositifs à semi-conducteurs spécialement adaptés au redressement, à l'amplification, à la génération d'oscillations ou à la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; Condensateurs ou résistances ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. jonction PN, région d'appauvrissement, ou région de concentration de porteurs de charges; Détails des corps semi-conducteurs ou de leurs électrodes
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Types de dispositifs semi-conducteurs
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
28
Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/268177
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
70
Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci; Fabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
71
Fabrication de parties spécifiques de dispositifs définis en H01L21/7089
768
Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
Déposants :
MAXPOWER SEMICONDUCTOR, INC. [US/US]; Suite 590 181 Metro Drive San Jose, California 95110, US
Inventeurs :
DARWISH, Mohamed; US
ZENG, Jun; US
BLANCHARD, Richard A.; US
Mandataire :
GROOVER III, Robert O.; US
CORCORAN, Gwendolyn G.; US
Données relatives à la priorité :
62/556,20108.09.2017US
Titre (EN) SELF-ALIGNED SHIELDED TRENCH MOSFETS AND RELATED FABRICATION METHODS
(FR) MOSFET À TRANCHÉE BLINDÉE AUTOALIGNÉE ET PROCÉDÉS DE FABRICATION ASSOCIÉS
Abrégé :
(EN) Structures and fabrication methods for increasing the density of trench transistor devices and the like. During fabrication of a trench transistor device, a vertical protrusion (or hat) of oxide is left in place above the gate trench. This vertical protrusion is self-aligned to the gate trench, and is used to define the positions of sidewall spacers (made e.g. of silicon nitride). These sidewall spacers define a space outward from the edge of the gate trench; by performing a recess etch which is delimited by these sidewall spacers, the resistance of the source contact and the body contact is minimized. The spacing between the gate trench and the recessed-contact field-plate trench can therefore be minimized and well controlled, which improves density without degrading on-resistance nor breakdown voltage.
(FR) La présente invention concerne des structures et des procédés de fabrication pour augmenter la densité de dispositifs de transistor à tranchée et similaire. Pendant la fabrication d'un dispositif de transistor à tranchée, une saillie verticale (ou chapeau) d'oxyde est laissée en place au-dessus de la tranchée de grille. Cette saillie verticale est autoalignée sur la tranchée de grille, et est utilisée pour définir les positions d'éléments d'espacement de paroi latérale (constitués, par exemple, de nitrure de silicium). Ces éléments d'espacement de paroi latérale définissent un espace vers l'extérieur depuis le bord de la tranchée de grille; en effectuant une gravure d'évidement qui est délimitée par ces éléments d'espacement de paroi latérale, la résistance du contact de source et du contact de corps est réduite au minimum. L'espacement entre la tranchée de grille et la tranchée de plaque de champ de contact évidée peut ainsi être réduit au minimum et mieux contrôlé, ce qui améliore la densité sans dégrader la résistance ou la tension de claquage.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)