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1. (WO2019050530) DISPOSITIF ÉLECTROCHROME DURABLE COMPRENANT UN FILM D’OXYDE DE TUNGSTÈNE PRÉPARÉ DANS UN ENVIRONNEMENT DE BOMBARDEMENT IONIQUE ÉLEVÉ ET DE DÉPÔT BASSE PRESSION ET SES PROCÉDÉS DE FABRICATION
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N° de publication : WO/2019/050530 N° de la demande internationale : PCT/US2017/050621
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 08.09.2017
CIB :
G02F 1/15 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
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pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
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basés sur des éléments électrochromiques
Déposants :
GUARDIAN GLASS, LLC [US/US]; 2300 Harmon Road Auburn Hills, MI 48326-1714, US
ESSILOR INTERNATIONAL [FR/FR]; 147 Rue de Paris 94220 Charenton-le-Pont, FR
Inventeurs :
BLANCHARD, Francis; CA
BALOUKAS, Bill; CA
MARTINU, Ludvik; CA
Mandataire :
ROBERTS, Jonathan, A.; US
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) DURABLE ELECTROCHROMIC DEVICE INCLUDING TUNGSTEN OXIDE FILM PREPARED IN HIGH ION BOMBARDMENT AND LOW PRESSURE DEPOSITION ENVIRONMENT AND METHODS OF MAKING THE SAME
(FR) DISPOSITIF ÉLECTROCHROME DURABLE COMPRENANT UN FILM D’OXYDE DE TUNGSTÈNE PRÉPARÉ DANS UN ENVIRONNEMENT DE BOMBARDEMENT IONIQUE ÉLEVÉ ET DE DÉPÔT BASSE PRESSION ET SES PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abrégé :
(EN) Certain example embodiments of this invention relate to electrochromic devices (100, 1500), assemblies incorporating electrochromic devices, and methods of making the same. Highly-durable electrochromic devices include tungsten oxide (e.g., W03 or other suitable stoichiometry) films (102, 1510) prepared using high-rate bias-enhanced sputter deposition. The sputtering is performed in a low-pressure (e.g., 1 mTorr) environment, and the biasing is very high (e.g., greater than -400 V, more preferably greater than -500 V), which causes high energy ion bombardment that in turn leads to partial nanocrystallization of the W03 matrix, while simultaneously generating the porous microstructure desirable for ionic diffusion.
(FR) Certains exemples de modes de réalisation de la présente invention concernent des dispositifs électrochromes (100, 1500), des ensembles incorporant des dispositifs électrochromes et des procédés de fabrication de ceux-ci. Des dispositifs électrochromes hautement durables comprennent des films d’oxyde de tungstène (par exemple WO3 ou une autre stœchiométrie adaptée) (102, 1510) préparés au moyen d’un dépôt par pulvérisation assisté par polarisation à haut débit. La pulvérisation est effectuée dans un environnement à basse pression (par exemple 1 mTorr), et la polarisation est très élevée (par exemple, supérieure à -400 V, plus préférentiellement supérieure à -500 V), ce qui provoque un bombardement ionique à haute énergie qui, à son tour, conduit à une nanocristallisation partielle de la matrice de WO3, tout en générant simultanément la microstructure poreuse souhaitable pour la diffusion ionique.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)