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1. (WO2019050365) TAMPON DE POLISSAGE EN POLYURÉTHANE POREUX ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication : WO/2019/050365 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/010562
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 10.09.2018
CIB :
B24D 3/32 (2006.01) ,B24D 18/00 (2006.01) ,C08L 75/04 (2006.01) ,C08J 9/04 (2006.01) ,C08J 9/00 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
D
OUTILS POUR MEULER, POLIR OU AFFILER
3
Propriétés physiques des corps ou feuilles abrasives, p.ex. surfaces abrasives de nature particulière; Corps ou feuilles abrasives caractérisés par leurs constituants
02
les constituants étant utilisés comme agglomérants
20
et étant essentiellement organiques
28
en résines
32
à structure poreuse ou alvéolaire
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
D
OUTILS POUR MEULER, POLIR OU AFFILER
18
Fabrication d'outils pour meuler, p.ex. roues, non prévue ailleurs
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
75
Compositions contenant des polyurées ou des polyuréthanes; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
04
Polyuréthanes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
9
Mise en œuvre de substances macromoléculaires pour produire des matériaux ou objets poreux ou alvéolaires; Leur post-traitement
04
utilisant des gaz de gonflage produits par un agent de gonflage introduit au préalable
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
9
Mise en œuvre de substances macromoléculaires pour produire des matériaux ou objets poreux ou alvéolaires; Leur post-traitement
Déposants :
에스케이씨 주식회사 SKC CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 수원시 장안구 장안로 309번길 84 84, Jangan-ro 309beon-gil, Jangan-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 16336, KR
Inventeurs :
서장원 SEO, Jang Won; KR
한혁희 HAN, Hyuk Hee; KR
허혜영 HEO, Hye Young; KR
류준성 RYOU, Joonsung; KR
권영필 KWON, Young Pil; KR
Mandataire :
제일특허법인(유) FIRSTLAW P.C.; 서울시 서초구 마방로 60 60 Mabang-Ro, Seocho-Ku, Seoul 06775, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-011606911.09.2017KR
10-2017-011610811.09.2017KR
Titre (EN) POROUS POLYURETHANE POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) TAMPON DE POLISSAGE EN POLYURÉTHANE POREUX ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(KO) 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
Abrégé :
(EN) An embodiment relates to a porous polyurethane polishing pad used in a chemical mechanical planarization process of a semiconductor, and a method for manufacturing the same, wherein polishing performance of the porous polyurethane polishing pad can be controlled by controlling the size and distribution of pores by using thermally expanded microcapsules as a solid phase forming agent, and an inert gas as a gas phase foaming agent.
(FR) Un mode de réalisation de l'invention concerne un tampon de polissage en polyuréthane poreux utilisé dans un procédé de planarisation mécano-chimique d'un semi-conducteur, et son procédé de fabrication, la performance de polissage du tampon de polissage en polyuréthane poreux pouvant être contrôlée en contrôlant la taille et de la distribution des pores grâce à l'utilisation de microcapsules thermiquement expansées en tant qu'agent de formation de phase solide, et d'un gaz inerte en tant qu'agent moussant en phase gazeuse.
(KO) 구현예는 반도체의 화학적 기계적 평탄화 공정에 사용되는 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 상기 다공성 폴리우레탄 연마패드는 고상 발포제인 열팽창된 마이크로 캡슐 및 기상 발포제인 불활성 기체를 사용하여 포어의 크기 및 분포를 조절함으로써, 연마성능을 조절할 수 있다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)