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1. (WO2019050270) RÉACTEUR DE PRODUCTION DE NANOPARTICULES
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N° de publication : WO/2019/050270 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/010361
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 05.09.2018
CIB :
B01J 6/00 (2006.01) ,B01J 19/12 (2006.01) ,B82Y 40/00 (2011.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
6
Calcination; Cuisson
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
J
PROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE, CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
19
Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
08
Procédés utilisant l'application directe de l'énergie ondulatoire ou électrique, ou un rayonnement particulaire; Appareils à cet usage
12
utilisant des radiations électromagnétiques
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
82
NANOTECHNOLOGIE
Y
UTILISATION OU APPLICATIONS SPÉCIFIQUES DES NANOSTRUCTURES; MESURE OU ANALYSE DES NANOSTRUCTURES; FABRICATION OU TRAITEMENT DES NANOSTRUCTURES
40
Fabrication ou traitement des nanostructures
Déposants :
주식회사 엘지화학 LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 서울시 영등포구 여의대로 128 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336, KR
Inventeurs :
김은정 KIM, Eun Jeong; KR
최준원 CHOI, Jun Won; KR
정진미 JUNG, Jin Mi; KR
임예훈 IM, Ye Hoon; KR
신부건 SHIN, Bu Gon; KR
Mandataire :
특허법인 다나 DANA PATENT LAW FIRM; 서울시 강남구 역삼로 3길 11 광성빌딩 신관 5층 5th Floor, New Wing, Gwangsung Bldg., 11, Yeoksam-ro 3-gil, Gangnam-gu, Seoul 06242, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-011428807.09.2017KR
Titre (EN) NANOPARTICLE PRODUCTION REACTOR
(FR) RÉACTEUR DE PRODUCTION DE NANOPARTICULES
(KO) 나노 입자 생산 반응기
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a nanoparticle production reactor. An aspect of the present invention provides a nanoparticle production reactor comprising: a main chamber including a first nozzle through which a raw gas is supplied; a lens housing which is connected to the main chamber to allow fluid to move therebetween and includes a second nozzle for supplying flushing gas thereinto; a lens mounted on the lens housing; a light source for emitting a laser such that the laser passes through the lens to reach a raw gas in the main chamber; and a hood for discharging a nanoparticle produced in the main chamber, wherein the lens housing is provided to have at least a partial region having a sectional area decreasing along a direction toward the main chamber.
(FR) La présente invention concerne un masque réacteur de production de nanoparticules. Un aspect de la présente invention concerne un réacteur de production de nanoparticules comprenant : une chambre principale comprenant une première buse à travers laquelle un gaz brut est fourni; un boîtier à lentille qui est relié à la chambre principale pour permettre au fluide de se déplacer entre ceux-ci et comprend une seconde buse pour fournir un gaz de rinçage dans celle-ci; une lentille montée sur le boîtier à lentille; une source de lumière pour émettre un laser de telle sorte que le laser passe à travers la lentille pour atteindre un gaz brut dans la chambre principale; et une hotte pour décharger une nanoparticule produite dans la chambre principale, le boîtier de lentille étant conçu pour avoir au moins une région partielle ayant une aire de section décroissante le long d'une direction vers la chambre principale.
(KO) 본 발명은 나노 입자 생산 반응기에 관한 것으로, 본 발명의 일 측면에 따르면, 원료 가스가 공급되는 제1 노즐을 포함하는 주 챔버, 주 챔버와 유체 이동 가능하게 연결되고, 내부로 플러싱 가스를 공급하기 위한 제2 노즐을 포함하는 렌즈 하우징, 렌즈 하우징에 장착된 렌즈, 렌즈를 통과하여 주 챔버 내 원료 가스에 도달하도록 레이저를 조사하기 위한 광원, 및 주 챔버에서 생성된 나노 입자가 배출되는 후드를 포함하며, 렌즈 하우징은 주 챔버를 향하는 방향을 따라 적어도 일부 영역의 단면적이 작아지도록 마련된, 나노 입자 생산 반응기가 제공된다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)