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1. (WO2019050120) GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE, ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE AMPLIFIÉE CHIMIQUEMENT POUR FILM ÉPAIS COMPRENANT CELUI-CI
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N° de publication : WO/2019/050120 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/003923
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 03.04.2018
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,C07D 221/14 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
221
Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons ne comportant qu'un atome d'azote comme unique hétéro-atome du cycle, non prévus par les groupes C07D211/-C07D219/210
02
condensés avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques
04
Systèmes cycliques condensés en ortho ou en péri
06
Systèmes cycliques à trois cycles
14
Aza-phénalènes, p.ex. naphtalimide-1, 8
Déposants :
주식회사 엘지화학 LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 서울시 영등포구 여의대로 128 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336, KR
Inventeurs :
임민영 LIM, Min Young; KR
이태섭 LEE, Tae Seob; KR
김지혜 KIM, Ji Hye; KR
Mandataire :
유미특허법인 YOU ME PATENT AND LAW FIRM; 서울시 강남구 테헤란로 115 115 Teheran-ro Gangnam-gu Seoul 06134, KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-011613511.09.2017KR
Titre (EN) PHOTOACID GENERATOR, AND CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM, COMPRISING SAME
(FR) GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE, ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE AMPLIFIÉE CHIMIQUEMENT POUR FILM ÉPAIS COMPRENANT CELUI-CI
(KO) 광산 발생제 및 이를 포함하는 후막용 화학 증폭형 포지티브 타입 포토레지스트 조성중
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a photoacid generator and a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film, comprising the same. The photoacid generator is chemically and thermally stable and can exhibit high sensitivity while also exhibiting high solubility with respect to a solvent of a photoresist composition. Particularly, the photoacid generator is decomposed by light so as to generate an acid and, simultaneously, can exhibit an anti-corrosion effect on a metal substrate.
(FR) La présente invention concerne un générateur de photoacide et une composition de résine photosensible positive amplifiée chimiquement pour un film épais comprenant celui-ci. Le générateur de photoacide est chimiquement et thermiquement stable et peut présenter une sensibilité élevée tout en présentant également une solubilité élevée par rapport à un solvant d'une composition de résine photosensible. En particulier, le générateur de photoacide est décomposé par la lumière de façon à générer un acide et, simultanément, peut présenter un effet anti-corrosion sur un substrat métallique.
(KO) 본 발명은 광산 발생제 및 이를 포함하는 후막용 화학 증폭형 포지티브 타입 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. 상기 광산 발생제는 포토레지스테 조성물의 용매에 대해 높은 용해도를 나타내면서도 화학적 및 열적으로 안정하고 높은 감도를 나타낼 수 있다. 특히 상기 광산 발생제는 빛에 의해 분해되어 산을 발생시킴과 동시에 금속 기판에 대한 부식 방지 효과를 나타낼 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)