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1. (WO2019049940) DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF
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N° de publication : WO/2019/049940 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/033073
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 06.09.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,B41J 2/47 (2006.01) ,G02B 26/12 (2006.01) ,H05K 3/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
J
MACHINES À ÉCRIRE; MÉCANISMES D'IMPRESSION SÉLECTIVE, c. à d. MÉCANISMES IMPRIMANT AUTREMENT QUE PAR UTILISATION DE FORMES D'IMPRESSION; CORRECTION D'ERREURS TYPOGRAPHIQUES
2
Machines à écrire ou mécanismes d'impression sélective caractérisés par le procédé d'impression ou de marquage pour lequel ils sont conçus
435
caractérisés par l'irradiation sélective d'un matériau d'impression ou de transfert d'impression
47
utilisant la combinaison du balayage et de la modulation de lumière
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26
Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation
08
pour commander la direction de la lumière
10
Systèmes de balayage
12
utilisant des miroirs à facettes multiples
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs :
鬼頭義昭 KITO Yoshiaki; JP
加藤正紀 KATO Masaki; JP
Mandataire :
千葉剛宏 CHIBA Yoshihiro; JP
宮寺利幸 MIYADERA Toshiyuki; JP
千馬隆之 SENBA Takayuki; JP
仲宗根康晴 NAKASONE Yasuharu; JP
坂井志郎 SAKAI Shiro; JP
関口亨祐 SEKIGUCHI Kosuke; JP
Données relatives à la priorité :
2017-17260108.09.2017JP
Titre (EN) PATTERN DRAWING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF
(JA) パターン描画装置
Abrégé :
(EN) While modulating the intensity of a drawing beam (LBn) to be projected as spot light (SP') to a substrate (P) on the basis of drawing data of a pattern defined by multiple pixels (PIC), this pattern drawing device (EX) relatively scans the projection position of the spot light (SP') along two-dimensional arrangement of the pixels (PIC) on the substrate (P). The pattern drawing device (EX) is provided with: a light source unit (LS) which, on the basis of the drawing data, emits a predetermined number of pulsed light beams to be oscillated as drawing beams with a predetermined period (Tf) to respective exposure pixels that are irradiated with the spot light (SP') during the relative scanning, and suspends the emission of the predetermined number of pulsed light beams to respective non-exposure pixels that are not irradiated with the spot light (SP') during the relative scanning; and a drawing control unit (200) which controls the light source unit (LS) such that the number of pulsed light beams to be emitted to edge part exposure pixels (PIC') corresponding to an edge part of the pattern among the exposure pixels increases or decreases relatively to the predetermined number.
(FR) Tout en modulant l’intensité d’un faisceau de dessin (LBn) devant être projeté en tant que lumière ponctuelle (SP’) sur un substrat (P) sur la base de données de dessin d’un motif défini par des pixels multiples (PIC), le dispositif de dessin de motif (EX) selon la présente invention balaye relativement la position de projection de la lumière ponctuelle (SP’) le long d’un agencement bidimensionnel des pixels (PIC) sur le substrat (P). Le dispositif de dessin de motif (EX) est pourvu de : une unité de source de lumière (LS) qui, sur la base des données de dessin, émet un nombre prédéterminé de faisceaux lumineux pulsés amenant à osciller en tant que faisceaux de dessin avec une période prédéterminée (Tf) vers des pixels d’exposition respectifs qui sont irradiés avec la lumière ponctuelle (SP’) pendant le balayage relatif, et suspend l’émission du nombre prédéterminé de faisceaux lumineux pulsés vers des pixels non exposés respectifs qui ne sont pas irradiés avec la lumière ponctuelle (SP’) pendant le balayage relatif ; et une unité de commande de dessin (200) qui commande l’unité de source de lumière (LS) de sorte que le nombre de faisceaux de lumière pulsés devant être émis vers des pixels d’exposition de partie de bord (PIC’) correspondant à une partie de bord du motif parmi les pixels d’exposition augmente ou diminue par rapport au nombre prédéterminé.
(JA) パターン描画装置(EX)は、スポット光(SP')として基板(P)に投射される描画ビーム(LBn)の強度を、多数の画素(PIC)で規定されるパターンの描画データに基づいて変調しつつ、スポット光(SP')の投射位置を基板(P)上で画素(PIC)の2次元的な配列に沿って相対走査する。パターン描画装置(EX)は、描画データに基づいて、相対走査中にスポット光(SP')が照射される露光画素の各々に対しては、描画ビームとして所定周期(Tf)で発振されるパルス光の所定数を射出し、相対走査中にスポット光(SP')が非照射とされる非露光画素の各々に対しては所定数のパルス光の射出を中断する光源装置(LS)と、描画データに基づいて、露光画素のうちでパターンのエッジ部に対応したエッジ部露光画素(PIC')に対して射出されるパルス光の数が、所定数に対して相対的に増減されるように光源装置(LS)を制御する描画制御装置(200)と、を備える。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)