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1. WO2019049795 - COMPOSITION, FILM, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT À MOTIFS

Numéro de publication WO/2019/049795
Date de publication 14.03.2019
N° de la demande internationale PCT/JP2018/032434
Date du dépôt international 31.08.2018
CIB
C09D 201/02 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
DCOMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
201Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires non spécifiés
02caractérisés par la présence de groupes déterminés
C07D 317/46 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
DCOMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
317Composés hétérocycliques contenant des cycles à cinq chaînons comportant deux atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle
08comportant les hétéro-atomes en positions 1, 3
44condensés en ortho ou en péri avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques
46condensés avec un cycle à six chaînons
C07D 317/54 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
DCOMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
317Composés hétérocycliques contenant des cycles à cinq chaînons comportant deux atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle
08comportant les hétéro-atomes en positions 1, 3
44condensés en ortho ou en péri avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques
46condensés avec un cycle à six chaînons
48Méthylènedioxybenzènes ou méthylènedioxybenzènes hydrogénés, non substitués sur l'hétérocycle
50avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du carbocycle
54Radicaux substitués par des atomes d'oxygène
C07D 317/64 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
DCOMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
317Composés hétérocycliques contenant des cycles à cinq chaînons comportant deux atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle
08comportant les hétéro-atomes en positions 1, 3
44condensés en ortho ou en péri avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques
46condensés avec un cycle à six chaînons
48Méthylènedioxybenzènes ou méthylènedioxybenzènes hydrogénés, non substitués sur l'hétérocycle
62avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p.ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes du carbocycle
64Atomes d'oxygène
C07D 405/14 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
07CHIMIE ORGANIQUE
DCOMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
405Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle
14contenant au moins trois hétérocycles
C08L 101/06 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
LCOMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
101Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
02caractérisées par la présence de groupes déterminés
06contenant des atomes d'oxygène
CPC
C07D 317/46
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
317Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
08having the hetero atoms in positions 1 and 3
44ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
46condensed with one six-membered ring
C07D 317/54
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
317Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
08having the hetero atoms in positions 1 and 3
44ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
46condensed with one six-membered ring
48Methylenedioxybenzenes or hydrogenated methylenedioxybenzenes unsubstituted on the hetero ring
50with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to atoms of the carbocyclic ring
54Radicals substituted by oxygen atoms
C07D 317/64
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
317Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
08having the hetero atoms in positions 1 and 3
44ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
46condensed with one six-membered ring
48Methylenedioxybenzenes or hydrogenated methylenedioxybenzenes unsubstituted on the hetero ring
62with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to atoms of the carbocyclic ring
64Oxygen atoms
C07D 405/14
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
405Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
14containing three or more hetero rings
C08L 101/06
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
101Compositions of unspecified macromolecular compounds
02characterised by the presence of specified groups ; , e.g. terminal or pendant functional groups
06containing oxygen atoms
C09D 201/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
201Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
02characterised by the presence of specified groups ; , e.g. terminal or pendant functional groups
Déposants
  • JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 中津 大貴 NAKATSU Hiroki
  • 高梨 和憲 TAKANASHI Kazunori
  • 酒井 一憲 SAKAI Kazunori
  • 松村 裕史 MATSUMURA Yuushi
  • 中川 大樹 NAKAGAWA Hiroki
Mandataires
  • 天野 一規 AMANO Kazunori
Données relatives à la priorité
2017-17255907.09.2017JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) COMPOSITION, FILM, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATE
(FR) COMPOSITION, FILM, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT À MOTIFS
(JA) 組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法
Abrégé
(EN)
The purpose of the invention is to provide: a composition capable of forming a film exhibiting excellent flatness, wet peeling resistance, and pattern bending resistance while maintaining solvent resistance; a film; a method for forming a film; and a method for producing a patterned substrate. The present invention pertains to a composition containing a solvent and a compound having a group represented by formula (1), having a molecular weight of at least 200, and having a carbon atom content of at least 40 mass%. In formula (1), R1 and R2 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-20 monovalent hydrocarbon group or C1-20 monovalent fluorinated hydrocarbon group, or a portion of an alicyclic structure which has 3-20 ring members and in which these groups are combined with each other together with carbon atoms bonded to these groups. Ar1 is a group obtained by removing (n+3) hydrogen atoms from an arene or heteroarene having 6-20 ring members. X is an oxygen atom, -CR3R4-, -CR3R4-O- or -O-CR3R4-.
(FR)
L'objectif de l'invention est de fournir : une composition apte à former un film présentant une excellente planéité, une excellente résistance au pelage humide, et une résistance à la flexion de motif tout en maintenant la résistance aux solvants ; un film ; un procédé de formation d'un film ; et un procédé de production d'un substrat à motifs. À cet effet, la présente invention concerne une composition contenant un solvant et un composé ayant un groupe représenté par la formule (1), ayant un poids moléculaire d'au moins 200, et ayant une teneur en atomes de carbone d'au moins 40 % en masse. Dans la formule (1), R1 et R2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydrocarboné monovalent en C1-20 ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent en C1-20, ou une partie d'une structure alicyclique qui possède 3 à 20 éléments cycliques et dans laquelle ces groupes sont combinés les uns aux autres par des atomes de carbone liés à ces groupes. Ar1 est un groupe obtenu par élimination de (n +3) atomes d'hydrogène d'un arène ou d'un hétéroarène ayant 6 à 20 chaînons de cycle. X est un atome d'oxygène, -CR3R4-, -CR3R4-O- ou -O-CR3R4-.
(JA)
溶媒耐性を維持しつつ、平坦性、ウェット剥離耐性及びパターンの曲り耐性に優れる膜を形成できる組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される基を有し、分子量が200以上であり、炭素原子の含有率が40質量%以上である化合物と、溶媒とを含有する組成物である。下記式(1)中、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1~20の1価の炭化水素基若しくは炭素数1~20の1価のフッ素化炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造の一部である。Arは、環員数6~20のアレーン又はヘテロアレーンから(n+3)個の水素原子を除いた基である。Xは、酸素原子、-CR-、-CR-O-又は-O-CR-である。
Également publié en tant que
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