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1. (WO2019049786) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUVANT ÊTRE DÉVELOPPÉE DANS L'EAU POUR IMPRESSION FLEXOGRAPHIQUE, ET PLAQUE ORIGINALE EN RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR IMPRESSION FLEXOGRAPHIQUE PRODUITE À PARTIR DE LADITE COMPOSITION
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N° de publication : WO/2019/049786 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/032375
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 31.08.2018
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,B41N 1/12 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/037 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
N
CLICHÉS OU PLAQUES D'IMPRESSION; MATÉRIAUX POUR SURFACES UTILISÉES DANS L'IMPRESSION POUR IMPRIMER, ENCRER, MOUILLER OU SIMILAIRE; PRÉPARATION DE TELLES SURFACES POUR LEUR EMPLOI OU LEUR CONSERVATION
1
Clichés ou plaques d'impression; Matériaux à cet effet
12
en une autre matière que la pierre ou le métal
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
032
avec des liants
037
les liants étant des polyamides ou des polyimides
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
09
caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
11
avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage
Déposants :
東洋紡株式会社 TOYOBO CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区堂島浜二丁目2番8号 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230, JP
Inventeurs :
川島 渉 KAWASHIMA, Wataru; JP
蓮池 準 HASUIKE, Jun; JP
Mandataire :
風早 信昭 KAZAHAYA, Nobuaki; JP
浅野 典子 ASANO, Noriko; JP
Données relatives à la priorité :
2017-17017805.09.2017JP
Titre (EN) WATER-DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FLEXOGRAPHIC PRINTING USE, AND PHOTOSENSITIVE RESIN ORIGINAL PLATE FOR FLEXOGRAPHIC PRINTING USE WHICH IS PRODUCED FROM SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUVANT ÊTRE DÉVELOPPÉE DANS L'EAU POUR IMPRESSION FLEXOGRAPHIQUE, ET PLAQUE ORIGINALE EN RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR IMPRESSION FLEXOGRAPHIQUE PRODUITE À PARTIR DE LADITE COMPOSITION
(JA) 水現像可能なフレキソ印刷用感光性樹脂組成物、及びそれから得られるフレキソ印刷用感光性樹脂原版
Abrégé :
(EN) Provided is a photosensitive resin composition for a flexographic printing original plate that is a low-hardness plate capable of being used in flexographic printing, is reduced in the adhesion of dust, dirt and paper dust onto a relief part formed therein, satisfies UV ink resistance and printing original plate long-term storage stability, and has high quality. The present invention is a water-developable photosensitive resin composition for flexographic printing use, which contains at least (a) polyamide and/or a polyamide block copolymer, (b) a crosslinking agent having at least one unsaturated group, (c) a photopolymerization initiator and (d) a fatty acid ester, the resin composition being characterized in that the fatty acid ester (d) is a fatty acid ester having at least two hydroxyl groups and 24 or 25 carbon atoms in the molecule thereof and is a fatty acid ester of a compound selected from fatty acids each having 12 to 22 carbon atoms, and also characterized in that the content of the fatty acid ester (d) in the photosensitive resin composition is 0.2 to 6% by weight.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible pour une plaque originale d'impression flexographique qui est une plaque de faible dureté pouvant être utilisée dans l'impression flexographique, qui permet de réduire l'adhérence de la poussière, de la saleté et de la poussière de papier sur une partie en relief formée à l'intérieur de ladite plaque, satisfait la résistance de l'encre UV et la stabilité de stockage à long terme de plaques originales d'impression, et présente une qualité supérieure. La présente invention porte sur une composition de résine photosensible pouvant être développée dans l'eau, destinée à être utilisée dans l'impression flexographique, qui contient au moins (a) un polyamide et/ou un copolymère séquencé de polyamide, (b) un agent de réticulation ayant au moins un groupe insaturé, (c) un initiateur de photopolymérisation et (d) un ester d'acide gras, la composition de résine étant caractérisée en ce que l'ester d'acide gras (d) est un ester d'acide gras ayant au moins deux groupes hydroxyle et 24 ou 25 atomes de carbone dans sa molécule et est un ester d'acide gras d'un composé choisi parmi les acides gras ayant chacun 12 à 22 atomes de carbone, et caractérisée en ce que la teneur de l'ester d'acide gras (d) dans la composition de résine photosensible est de 0,2 à 6 % en poids.
(JA) フレキソ印刷に用いられる低硬度版でありがら、レリーフへの塵、埃、紙粉の付着の低減とUVインキ耐性だけでなく、印刷原版の長期保存性も満足させた高品質のフレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物を提供する。本発明は、少なくとも(a)ポリアミド及び/又はポリアミドブロック共重合体、(b)1つ以上の不飽和基を有する架橋剤、(c)光重合開始剤、及び(d)脂肪酸エステルを含有する水現像可能なフレキソ印刷用感光性樹脂組成物であって、(d)脂肪酸エステルが、2個以上のヒドロキシル基と24個又は25個の炭素原子を分子内に有する脂肪酸エステルであって、炭素数12~22の脂肪酸から選ばれる化合物の脂肪酸エステルであること、及び感光性樹脂組成物中の(d)脂肪酸エステルの含有量が、0.2~6重量%であることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)