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1. (WO2019049776) COMPOSITION DE RÉSINE
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N° de publication : WO/2019/049776 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/032311
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 31.08.2018
CIB :
C08L 29/04 (2006.01) ,C08K 5/07 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
29
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un radical alcool, éther, aldéhyde, cétone, acétal ou cétal; Compositions contenant des polymères d'esters hydrolysés d'alcools non saturés avec des acides carboxyliques saturés; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
02
Homopolymères ou copolymères d'alcools non saturés
04
Alcool polyvinylique; Homopolymères ou copolymères d'esters partiellement hydrolysés d'alcools non saturés avec des acides carboxyliques saturés
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
K
EMPLOI COMME ADJUVANTS DE SUBSTANCES NON MACROMOLÉCULAIRES INORGANIQUES OU ORGANIQUES
5
Emploi d'ingrédients organiques
04
Composés contenant de l'oxygène
07
Aldéhydes; Cétones
Déposants :
日本合成化学工業株式会社 THE NIPPON SYNTHETIC CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区小松原町2番4号 2-4, Komatsubara-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300018, JP
Inventeurs :
深町 友也 FUKAMACHI Yuya; JP
Mandataire :
特許業務法人栄光特許事務所 EIKOH PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング10階 Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
Données relatives à la priorité :
2017-17243407.09.2017JP
Titre (EN) RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE
(JA) 樹脂組成物
Abrégé :
(EN) The present invention addresses the problem of providing a resin composition that is reduced in acetic acid odor which is generated during the melt molding of a polyvinyl alcohol (PVA) resin, and which could remain in a molded article. A resin composition according to the present invention contains a PVA resin (A) and a multimeric aldehyde compound (B); and the content of the multimeric aldehyde compound (B) is from 0.5 × 10-4 to 100 × 10-4 parts by weight relative to 100 parts by weight of the PVA resin (A).
(FR) La présente invention aborde le problème consistant à fournir une composition de résine qui présente une odeur d’acide acétique réduite qui est générée durant le moulage à l’état fondu d’une résine de poly(alcool de vinyle) (PVA), et qui pourrait demeurer dans un article moulé. Une composition de résine selon la présente invention contient une résine de PVA (A) et un composé aldéhyde multimère (B) ; et la teneur du composé aldéhyde multimère (B) est de 0,5 x 10-4 à 100 x 10-4 parties en poids par rapport à 100 parties en poids de la résine de PVA (A).
(JA) 本発明は、ポリビニルアルコール(PVA)系樹脂の溶融成形時に発生し、成形品に残存し得る酢酸臭が低減される樹脂組成物を提供することを課題とする。本発明の樹脂組成物は、PVA系樹脂(A)と、多量体アルデヒド化合物(B)とを含有し、前記多量体アルデヒド化合物(B)の含有量が、前記PVA系樹脂(A)100重量部に対して、0.5×10-4~100×10-4重量部である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)