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1. (WO2019049721) RÉSINE (MÉTH)ACRYLATE CONTENANT UN GROUPE ACIDE, COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE, MATÉRIAU DE RÉSINE POUR RÉSERVE DE SOUDURE, ET ÉLÉMENT DE RÉSERVE
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N° de publication : WO/2019/049721 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/031689
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 28.08.2018
CIB :
C08G 8/28 (2006.01) ,C08F 20/58 (2006.01) ,C08G 8/30 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/032 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
8
Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols
28
Polycondensats modifiés chimiquement
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
20
Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
52
Amides ou imides
54
Amides
58
contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carbonamide
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
8
Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols
28
Polycondensats modifiés chimiquement
30
par des composés non saturés, p.ex. des terpènes
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
032
avec des liants
Déposants :
DIC株式会社 DIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都板橋区坂下三丁目35番58号 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520, JP
Inventeurs :
山田 駿介 YAMADA Shunsuke; JP
亀山 裕史 KAMEYAMA Hirofumi; JP
Mandataire :
小川 眞治 OGAWA Shinji; JP
Données relatives à la priorité :
2017-17301708.09.2017JP
Titre (EN) ACID GROUP-CONTAINING (METH)ACRYLATE RESIN, CURABLE RESIN COMPOSITION, RESIN MATERIAL FOR SOLDER RESIST, AND RESIST MEMBER
(FR) RÉSINE (MÉTH)ACRYLATE CONTENANT UN GROUPE ACIDE, COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE, MATÉRIAU DE RÉSINE POUR RÉSERVE DE SOUDURE, ET ÉLÉMENT DE RÉSERVE
(JA) 酸基含有(メタ)アクリレート樹脂、硬化性樹脂組成物、ソルダーレジスト用樹脂材料及びレジスト部材
Abrégé :
(EN) The present invention provides an acid group-containing (meth)acrylate resin characterized by containing, as essential reaction raw materials, (A) a phenolic hydroxyl group-containing resin, (B1) a cyclic carbonate compound or (B2) a cyclic ether compound, (C) a N-alkoxyalkyl (meth)acrylamide compound and (D) an acid anhydride. This acid group-containing (meth)acrylate resin exhibits high light sensitivity and excellent alkali developing performance, and can form a cured product having excellent insulation reliability.
(FR) La présente invention concerne une résine (méth)acrylate contenant un groupe acide caractérisée en ce qu’elle contient, comme matières premières réactionnelles essentielles, (A) une résine contenant un groupe hydroxyle phénolique, (B1) un composé carbonate cyclique ou (B2) un composé éther cyclique, (C) un composé de N-alcoxyalkyl (méth)acrylamide et (D) un anhydride d’acide. Cette résine (méth)acrylate contenant un groupe acide fait preuve d’une sensibilité élevée à la lumière et d'une excellente performance de développement alcalin, et peut former un produit durci présentant une excellente fiabilité d’isolation.
(JA) 本発明は、フェノール性水酸基含有樹脂(A)と、環状カーボネート化合物(B1)または環状エーテル化合物(B2)と、N-アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミド化合物(C)と、酸無水物(D)とを必須の反応原料とすることを特徴とする酸基含有(メタ)アクリレート樹脂を提供する。この酸基含有(メタ)アクリレート樹脂は、高い光感度及び優れたアルカリ現像性を有しており、絶縁信頼性に優れた硬化物を形成することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)