Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019049634) FILM BARRIÈRE CONTRE LES GAZ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM BARRIÈRE CONTRE LES GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/049634 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/030529
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 17.08.2018
CIB :
B32B 9/00 (2006.01) ,B32B 27/28 (2006.01) ,C23C 16/42 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
9
Produits stratifiés composés essentiellement d'une substance particulière non couverte par les groupes B32B11/-B32B29/155
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
27
Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
28
comprenant des copolymères de résines synthétiques non complètement couverts par les sous-groupes suivants
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
22
caractérisé par le dépôt de matériaux inorganiques, autres que des matériaux métalliques
30
Dépôt de composés, de mélanges ou de solutions solides, p.ex. borures, carbures, nitrures
42
Siliciures
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
岩瀬 英二郎 IWASE Eijiro; JP
Mandataire :
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
Données relatives à la priorité :
2017-17121206.09.2017JP
2018-10819706.06.2018JP
Titre (EN) GAS BARRIER FILM AND METHOD FOR PRODUCING GAS BARRIER FILM
(FR) FILM BARRIÈRE CONTRE LES GAZ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM BARRIÈRE CONTRE LES GAZ
(JA) ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法
Abrégé :
(EN) The present invention addresses the problem of providing: a novel gas barrier film which has high durability and good productivity; and a method for producing this gas barrier film. A gas barrier film according to the present invention comprises a supporting body, and an inorganic layer and a resin film, which are supported by the supporting body, in this order. The resin film has a hydroxyl group; the inorganic layer and the resin film are directly bonded with each other, while partially having a separated part at the interface; and this gas barrier film has one or more combinations of the inorganic layer and the resin film. In a method for producing a gas barrier film according to the present invention, after the formation of an inorganic layer by a vapor deposition method, a resin film having a hydroxyl group is laminated on the inorganic layer and heated.
(FR) La présente invention traite le problème consistant à fournir : un nouveau film barrière contre les gaz ayant une durabilité élevée et une bonne productivité ; et un procédé pour produire le film barrière contre les gaz. Un film barrière contre les gaz selon la présente invention comprend un corps de support, ainsi qu'une couche inorganique et un film de résine qui sont supportés par le corps de support, dans cet ordre. Le film de résine a un groupe hydroxyle ; la couche inorganique et le film de résine sont directement liés l'un à l'autre, tout en ayant partiellement une partie séparée au niveau de l'interface ; et le film barrière contre les gaz a une ou plusieurs combinaisons de la couche inorganique et du film de résine. Dans un procédé de production d'un film barrière contre les gaz selon la présente invention, après la formation d'une couche inorganique par un procédé de dépôt en phase vapeur, un film de résine ayant un groupe hydroxyle est stratifié sur la couche inorganique et chauffé.
(JA) 耐久性が高く、生産性も良好な新規なガスバリアフィルム、および、このガスバリアフィルムの製造方法の提供を課題とする。ガスバリアフィルムは、支持体と、支持体に支持される、無機層と、樹脂フィルムと、をこの順に有し、樹脂フィルムが水酸基を有し、無機層と、樹脂フィルムとが、界面に部分的に離間部を有して直接接合され、無機層と樹脂フィルムとの組み合わせを、1組以上有する。ガスバリアフィルムの製造方法は、気相成膜法で無機層を形成した後、無機層に水酸基を有する樹脂フィルムを積層して、加熱する。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)