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1. (WO2019049565) SUBSTRAT POUR RUBAN ADHÉSIF SENSIBLE À LA PRESSION, RUBAN ADHÉSIF SENSIBLE À LA PRESSION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
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N° de publication : WO/2019/049565 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/028909
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 01.08.2018
CIB :
C09J 7/24 (2018.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,C08L 27/06 (2006.01) ,C08L 51/04 (2006.01) ,C09D 5/00 (2006.01) ,C09D 151/04 (2006.01) ,C09J 7/38 (2018.01) ,C09J 7/50 (2018.01)
[IPC code unknown for C09J 7/24]
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
27
Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
27
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un halogène; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
02
non modifiées par un post-traitement chimique
04
contenant des atomes de chlore
06
Homopolymères ou copolymères du chlorure de vinyle
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
51
Compositions contenant des polymères greffés dans lesquels le composant greffé est obtenu par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
04
greffés sur des caoutchoucs
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
D
COMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
5
Compositions de revêtement, p.ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produits; Apprêts en pâte
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
D
COMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
151
Compositions de revêtement à base de polymères greffés dans lesquels le composant greffé est obtenu par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
04
greffés sur des caoutchoucs
[IPC code unknown for C09J 7/38][IPC code unknown for C09J 7/50]
Déposants :
デンカ株式会社 DENKA COMPANY LIMITED [JP/JP]; 東京都中央区日本橋室町二丁目1番1号 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038338, JP
Inventeurs :
木村 晃純 KIMURA, Akiyoshi; JP
蓮見 水貴 HASUMI, Mizuki; JP
澤村 翔太 SAWAMURA, Syota; JP
Mandataire :
SK特許業務法人 SK INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; 東京都渋谷区広尾3-12-40 広尾ビル4階 Hiroo-Building 4th Floor, 3-12-40, Hiroo, Shibuya-ku, Tokyo 1500012, JP
奥野 彰彦 OKUNO Akihiko; JP
伊藤 寛之 ITO Hiroyuki; JP
Données relatives à la priorité :
2017-17292708.09.2017JP
Titre (EN) SUBSTRATE FOR PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE TAPE, PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE TAPE, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) SUBSTRAT POUR RUBAN ADHÉSIF SENSIBLE À LA PRESSION, RUBAN ADHÉSIF SENSIBLE À LA PRESSION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 粘着テープ用基材、粘着テープ及びその製造方法
Abrégé :
(EN) Provided is a substrate for pressure-sensitive adhesive tapes which is thin and, despite this, can inhibit a water-based undercoating agent applied thereto from suffering cissing. The substrate for pressure-sensitive adhesive tapes provided by the present invention comprises 100 parts by mass of a poly(vinyl chloride) resin having an average degree of polymerization of 1,200-1,800, 25-75 parts by mass of a plasticizer, and 5-40 parts by mass of an inorganic filler, wherein the inorganic filler has an average particle diameter of 0.05-0.8 μm. The substrate has a thickness of 40-80 μm.
(FR) L'invention concerne un substrat pour rubans adhésifs sensibles à la pression qui est fin et malgré cela, peut empêcher un agent de sous-couche à base d'eau qui lui est appliqué de subir une rétraction. Le substrat pour rubans adhésifs sensibles à la pression selon la présente invention comprend 100 parties en masse d'une résine de poly(chlorure de vinyle) présentant un degré de polymérisation moyen de 1 200 à 1 800, 25 à 5 parties en masse d'un plastifiant, et 5 à 40 parties en masse d'une charge inorganique, la charge inorganique présentant un diamètre de particule moyen de 0,05 à 0,8 µm. Le substrat présente une épaisseur de 40 à 80 µm.
(JA) 薄肉でありながら、水系の下塗剤の塗工時にハジキの発生を抑制することができる、粘着テープ用基材を提供する。 本発明によれば、平均重合度1200~1800のポリ塩化ビニル樹脂100質量部に対し、可塑剤25~75質量部、無機充填材5~40質量部を含む、粘着テープ用基材であって前記無機充填材の平均粒子径が0.05~0.8μmであり、前記基材の厚さが40~80μmである、粘着テープ用基材が提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)