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1. (WO2019049463) COMPOSITION DE STÉRÉOLITHOGRAPHIE
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N° de publication : WO/2019/049463 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/023281
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 19.06.2018
CIB :
C08F 2/46 (2006.01) ,C08F 220/10 (2006.01) ,C08F 220/58 (2006.01) ,C08F 226/02 (2006.01) ,C08F 292/00 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
46
Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
220
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
220
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
52
Amides ou imides
54
Amides
58
contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carbonamide
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
226
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison simple ou double à l'azote ou par un hétérocycle contenant de l'azote
02
par une simple ou une double liaison à l'azote
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
292
Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des substances inorganiques
Déposants :
株式会社エンプラス ENPLAS CORPORATION [JP/JP]; 埼玉県川口市並木2丁目30番1号 30-1, Namiki 2-chome, Kawaguchi-shi, Saitama 3320034, JP
Inventeurs :
上本 紘平 JOHMOTO, Kohei; JP
石田 毅一郎 ISHIDA, Kiichiro; JP
小橋 一輝 KOBASHI, Itsuki; JP
Mandataire :
特許業務法人大貫小竹国際特許事務所 OHNUKI & KOTAKE; 東京都千代田区神田須田町二丁目25番地 山崎須田町ビル5階 Yamasakisudacho-Building 5th floor, 25, Kandasudacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041, JP
Données relatives à la priorité :
2017-17049805.09.2017JP
2018-09185711.05.2018JP
Titre (EN) STEREOLITHOGRAPHY COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE STÉRÉOLITHOGRAPHIE
(JA) 光造形用組成物
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide a stereolithography composition capable of improving the mechanical properties of a formed object in a high temperature environment and of sufficiently reducing viscosity during formation. [Solution] A stereolithography composition comprises a photocurable resin, an inorganic filler, and an additive which is a compound having an amide bond and a C=C unsaturated double bond in the molecule. The additive is preferably selected from an N-vinylformamide and a 4-acryloylmorpholine. The inorganic filler is preferably a layered silicate compound such as talc, silica, or mica. The above enables the formed object to have a storage modulus of 2000 MPa or higher in a high temperature environment and enables the viscosity during formation to be less than 2000 mPa∙s.
(FR) Le problème à la base de la présente invention concerne une composition de stéréolithographie en mesure d'améliorer les propriétés mécaniques d'un objet formé dans un environnement à haute température et de réduire suffisamment la viscosité pendant la formation. La solution selon l'invention porte sur une composition de stéréolithographie qui comprend une résine photodurcissable, une charge inorganique et un additif qui est un composé présentant une liaison amide et une double liaison C=C insaturée dans la molécule. L'additif est de préférence choisi parmi le N-vinylformamide et la 4-acryloylmorpholine. La charge inorganique est de préférence un composé de silicate à couches tel que le talc, la silice ou le mica. Le procédé ci-dessus permet à l'objet formé de présenter un module de conservation de 2000 MPa ou plus dans un environnement à haute température et permet à la viscosité pendant la formation d'être inférieure à 2000 mPa∙s.
(JA) 【課題】造形物において高温環境下での機械的物性を高くでき、且つ、造形時においては、粘度を十分に低くすることが可能な光造形用組成物を提供する。 【解決手段】光造形用組成物は、光硬化性樹脂と、無機フィラーと、分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物である添加剤と、を含む。添加剤としては、N-ビニルホルムアミド、及び、4-アクリロモルホリンから選択するとよい。また、無機フィラーとしては、タルク、シリカ、マイカ等の層状ケイ酸塩化合物を用いるとよい。造形物の高温環境下において、貯蔵弾性率を2000MPa以上とすることができ、また、造形時において、粘度を2000mPa・s未満とすることが可能となる。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)