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1. (WO2019049278) MACHINE DE SÉRIGRAPHIE
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N° de publication : WO/2019/049278 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/032320
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 07.09.2017
CIB :
B41F 15/08 (2006.01) ,B41F 15/26 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
F
MACHINES OU PRESSES À IMPRIMER
15
Machines de sérigraphie
08
Machines
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
F
MACHINES OU PRESSES À IMPRIMER
15
Machines de sérigraphie
14
Parties constitutives
16
Tables d'impression
18
Porte-objets
26
pour objets à surfaces planes
Déposants :
株式会社FUJI FUJI CORPORATION [JP/JP]; 愛知県知立市山町茶碓山19番地 19 Chausuyama Yamamachi, Chiryu-Shi Aichi 4728686, JP
Inventeurs :
加藤光昭 KATO, Mitsuaki; JP
Mandataire :
廣田昭博 HIROTA Akihiro; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SCREEN PRINTING MACHINE
(FR) MACHINE DE SÉRIGRAPHIE
(JA) スクリーン印刷機
Abrégé :
(EN) A screen printing machine for optimizing the degree of adhesion between a mask and a substrate comprises: a mask holding device that holds the mask; a substrate positioning device by which the substrate being held is positioned from below with respect to the mask being held by means of the mask holding device; a squeegee device that applies and spreads cream solder onto the mask; a height measurement device that measures the heights of the mask and the substrate; a control device that controls the driving of the respective devices, and that, on the basis of measurement values obtained from the height measurement device, calculates the thickness of a mask lower layer formed integrally with the mask; and an operation display device with which an input operation can be performed and a value calculated by the control device can be displayed.
(FR) L'invention concerne une machine de sérigraphie destinée à optimiser le degré d'adhérence entre un masque et un substrat, comprenant : un dispositif de maintien de masque qui maintient le masque ; un dispositif de positionnement de substrat par lequel le substrat qui est maintenu est positionné par le dessous par rapport au masque qui est maintenu au moyen du dispositif de maintien de masque ; un dispositif à raclette qui applique et étale la crème à braser sur le masque ; un dispositif de mesure de hauteur qui mesure les hauteurs du masque et du substrat ; un dispositif de commande qui commande l'entraînement des dispositifs respectifs et qui, sur la base de valeurs de mesure obtenues de la part du dispositif de mesure de hauteur, calcule l'épaisseur d'une couche inférieure de masque formée d'un seul tenant avec le masque ; et un dispositif d'affichage d'opération avec lequel une opération d'entrée peut être effectuée et une valeur calculée par le dispositif de commande peut être affichée.
(JA) マスクと基板との密着度の最適化するためのスクリーン印刷機であり、マスクを保持するマスク保持装置と、保持した基板を前記マスク保持装置に保持されたマスクに対して下方から位置決めする基板位置決め装置と、前記マスクに対してクリームはんだを塗り延ばしするスキージ装置と、前記マスクや前記基板の高さを計測する高さ計測装置と、前記各装置の駆動制御および、前記高さ計測装置から得られた計測値に基づいて前記マスクと一体に形成されたマスク下側層の厚さを算出する制御装置と、入力操作や前記制御装置による算出値の表示が可能な操作表示装置とを有する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)