Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019049261) CANON À ÉLECTRONS ET DISPOSITIF D'APPLICATION DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/049261 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/032276
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 07.09.2017
CIB :
H01J 37/06 (2006.01) ,H01J 37/141 (2006.01) ,H01J 37/244 (2006.01) ,H01J 37/248 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01) ,H01J 37/295 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
06
Sources d'électrons; Canons à électrons
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
10
Lentilles
14
magnétiques
141
Lentilles électromagnétiques
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
244
Détecteurs; Composants ou circuits associés
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
248
Composants associés à l'alimentation haute tension
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
28
avec faisceaux de balayage
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
295
Tubes à diffraction électronique ou ionique
Déposants :
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventeurs :
松永 宗一郎 MATSUNAGA Soichiro; JP
早田 康成 SOHDA Yasunari; JP
片桐 創一 KATAGIRI Souichi; JP
榊原 慎 SAKAKIBARA Makoto; JP
川野 源 KAWANO Hajime; JP
土肥 隆 DOI Takashi; JP
Mandataire :
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ELECTRON GUN AND ELECTRON BEAM APPLICATION DEVICE
(FR) CANON À ÉLECTRONS ET DISPOSITIF D'APPLICATION DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS
(JA) 電子銃および電子ビーム応用装置
Abrégé :
(EN) In order to provide an electron gun, wherein the spot diameter of a beam converged on a sample can be maintained small even if a probe current applied to the sample is increased, a magnetic field generation source (301) is provided with respect to an electron gun having: an electron source (101); an extraction electrode (102) for extracting electrons from the electron source (101); an acceleration electrode (103) for accelerating the electrons extracted from the electron source (101); and a first coil (104) and a first magnetic path (201) having an opening on the electron source side, said first coil and first magnetic path forming a control lens for converging an electron beam outputted from the acceleration electrode (103). The magnetic field generation source is provided for the purpose of cancelling, at the installation position of the electron source (101), a magnetic field generated due to the first coil (104) and the first magnetic path (201).
(FR) Afin de pourvoir à un canon à électrons dans lequel le diamètre du point d'impact d'un faisceau fait converger sur un échantillon puisse rester petit même si un courant de sonde appliqué à l'échantillon est augmenté, l'invention porte sur une source de génération de champ magnétique (301) relativement à un canon à électrons comportant : une source d'électrons (101) ; une électrode d'extraction (102) pour extraire des électrons de la source d'électrons (101) ; une électrode d'accélération (103) pour accélérer les électrons extraits de la source d'électrons (101) ; et une première bobine (104) et un premier chemin magnétique (201) comportant une ouverture du côté de la source d'électrons, ladite première bobine et ledit premier chemin magnétique formant une lentille de commande servant à faire converger un faisceau d'électrons émis à partir de l'électrode d'accélération (103). La source de génération de champ magnétique est prévue dans le but d'annuler, à la position d'installation de la source d'électrons (101), un champ magnétique généré en raison de la première bobine (104) et du premier chemin magnétique (201).
(JA) 試料に照射するプローブ電流を大きくしても、試料上に収束するビームのスポット径を小さく維持できる電子銃を実現するため、電子源(101)と、電子源(101)から電子を引き出す引出電極(102)と、電子源(101)から引き出された電子を加速させる加速電極(103)と、加速電極(103)から放出される電子ビームを収束させる制御レンズを形成する第1コイル(104)及び電子源側に開口を有する第1磁路(201)を有する電子銃に対して、電子源(101)の設置位置において第1コイル(104)及び第1磁路(201)により発生される磁場を打ち消すための磁場発生源(301)を設ける。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)