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1. (WO2019049219) DISPOSITIF DE ROTATION DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
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N° de publication : WO/2019/049219 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/032008
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 05.09.2017
CIB :
H01L 21/683 (2006.01) ,F16H 49/00 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683
pour le maintien ou la préhension
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
16
ÉLÉMENTS OU ENSEMBLES DE TECHNOLOGIE; MESURES GÉNÉRALES POUR ASSURER LE BON FONCTIONNEMENT DES MACHINES OU INSTALLATIONS; ISOLATION THERMIQUE EN GÉNÉRAL
H
TRANSMISSIONS
49
Autres transmissions
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30
Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302
pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
304
Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe
Déposants :
倉敷紡績株式会社 KURASHIKI BOSEKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 岡山県倉敷市本町7番1号 7-1, Hommachi, Kurashiki-shi, Okayama 7100054, JP
Inventeurs :
横田 博 YOKOTA, Hiroshi; JP
樋川 英昭 HIKAWA, Hideaki; JP
Mandataire :
河原 哲郎 KAWAHARA, Tetsuro; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SUBSTRATE ROTATING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE ROTATION DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板回転装置および基板処理装置
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide a substrate rotating device with which a contamination source in a container can be reduced and which is easier to maintain. [Solution] A substrate rotating device 10 comprises: an outer frame body 20 which is provided with a magnetic field generating means and which can cause a generated magnetic field to rotate about a central axis; a container 40 disposed on the inside of the outer frame body; an inner frame body 50 which is disposed in the container and is provided with a substrate 60 holding means and circumferentially distributed magnets or ferromagnetic materials; a magnetic coupling means which magnetically couples the outer frame body with the inner frame body to cause the inner frame body to float, and which causes the inner frame body to rotate so as to follow a rotational change in the magnetic field; and a gap adjusting means which keeps a constant interval between the outer frame body and the inner frame body, and which maintains the inner frame body concentric with the outer frame body.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de pourvoir à un dispositif de rotation de substrat avec lequel une source de contamination dans un contenant puisse être réduite et qui soit plus facile à entretenir. La solution selon l'invention porte sur un dispositif de rotation de substrat 10 qui comprend : un corps de structure externe 20 qui est pourvu d'un moyen de génération de champ magnétique et qui peut faire tourner autour d'un axe central un champ magnétique généré ; un contenant 40 disposé à l'intérieur du corps de structure externe ; un corps de structure interne 50 qui est disposé dans le contenant et est pourvu d'un moyen de retenue de substrat 60 et d'aimants ou de matériaux ferromagnétiques répartis de manière circonférentielle ; un moyen de couplage magnétique qui couple magnétiquement le corps de structure externe au corps de structure interne pour faire flotter le corps de structure interne, et qui fait tourner le corps de structure interne de manière à suivre la variation rotative du champ magnétique ; et un moyen d'ajustement d'écartement qui maintient un intervalle constant entre le corps de structure externe et le corps de structure interne, et qui maintient le corps de structure interne concentrique avec le corps de structure externe.
(JA) [課題]容器内の汚染源を減らし、より保守が容易な基板回転装置を提供すること。 [解決手段]磁場発生手段を備え、発生した磁場を中心軸の周りに回転可能な外枠体20と、前記外枠体の内側に配置された容器40と、前記容器内に配置され、基板60保持手段と周方向に分散配置された磁石または強磁性体とを備える内枠体50と、前記外枠体と前記内枠体を磁気的に結合して、該内枠体を浮上させるとともに、該内枠体を前記磁場の回転変化に追随させて回転させる磁気結合手段と、前記外枠体と前記内枠体の間隔を一定に保ち、該内枠体を該外枠体と同心に維持するギャップ調整手段とを有する基板回転装置10。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)