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1. (WO2019048888) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF MEMS
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N° de publication : WO/2019/048888 N° de la demande internationale : PCT/GB2018/052566
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 10.09.2018
CIB :
B41J 2/14 (2006.01) ,B41J 2/16 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
J
MACHINES À ÉCRIRE; MÉCANISMES D'IMPRESSION SÉLECTIVE, c. à d. MÉCANISMES IMPRIMANT AUTREMENT QUE PAR UTILISATION DE FORMES D'IMPRESSION; CORRECTION D'ERREURS TYPOGRAPHIQUES
2
Machines à écrire ou mécanismes d'impression sélective caractérisés par le procédé d'impression ou de marquage pour lequel ils sont conçus
005
caractérisés par la mise en contact sélective d'un liquide ou de particules avec un matériau d'impression
01
à jet d'encre
135
Ajutages
14
Leur structure
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
J
MACHINES À ÉCRIRE; MÉCANISMES D'IMPRESSION SÉLECTIVE, c. à d. MÉCANISMES IMPRIMANT AUTREMENT QUE PAR UTILISATION DE FORMES D'IMPRESSION; CORRECTION D'ERREURS TYPOGRAPHIQUES
2
Machines à écrire ou mécanismes d'impression sélective caractérisés par le procédé d'impression ou de marquage pour lequel ils sont conçus
005
caractérisés par la mise en contact sélective d'un liquide ou de particules avec un matériau d'impression
01
à jet d'encre
135
Ajutages
16
Fabrication d'ajutages
Déposants :
XAAR TECHNOLOGY LIMITED [GB/GB]; 316 Science Park Cambridge CB4 0XR, GB
Inventeurs :
SCOTT, Bruce; GB
Mandataire :
PITCHFORD, James, Edward; Mathys & Squire LLP The Shard 32 London Bridge Street London SE1 9SG, GB
Données relatives à la priorité :
1714507.908.09.2017GB
Titre (EN) A METHOD FOR THE MANUFACTURE OF A MEMS DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF MEMS
Abrégé :
(EN) A method for the manufacture of a microelectromechanical systems (MEMS) device comprising bonded components which together define a chamber in the device, which method comprises forming a bonding material layer on a surface of a first component, patterning the bonding material layer and, optionally,the first component and bonding a second component to the patterned bonding material layer and first component.The forming of the bonding material layer comprises partially curing a curable material and the bonding of the second component to the patterned bonding material layer and the first component comprises fully curing the partially cured material.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif de systèmes micro-électromécaniques (MEMS) comprenant des éléments liés qui délimitent ensemble une chambre dans le dispositif. Le procédé comprend la formation d'une couche de matériau de liaison sur une surface d'un premier élément, la formation de motifs sur la couche de matériau de liaison et, éventuellement, le premier élément et la liaison d'un second élément à la couche de matériau de liaison à motifs et au premier élément. La formation de la couche de matériau de liaison comprend le durcissement partiel d'un matériau durcissable et la liaison du second élément à la couche de matériau de liaison à motifs et au premier élément comprend le durcissement complet du matériau partiellement durci.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)